An Optimum magnetic field in Cu thin films production of DC magnetron sputtering
Publish place: 1st National Conference on Nano Science and Technology
Publish Year: 1389
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: English
View: 1,863
This Paper With 6 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
NNTC01_170
تاریخ نمایه سازی: 8 آبان 1389
Abstract:
Cu film has been deposited by direct current (DC) magnetron sputtering on glass substrates under different deposition conditions. The effect of magnetic field on production of Cupper thin films have been studied so that Cu films were deposited on glass substrates without heating by DC magnetron sputtering in pure Argon gas. The coil current has increased from 2A to 9A. Additionally, X-Ray diffraction, Spectrophotometer, RBS and Atomic Force Microscopy were employed to observe the structural characterization of the films. The results show that there is an optimum magnetic field for the maximum sputtering rate and Surface properties could be affected by this experiment dramatically.
Keywords:
Authors
Ashraf Alsadat Mirkamali
Islamic Azad University,Behshahr branch, Behshahr, Mazandaran, Iran
Mahmood Ghorrannevis
Plasma Physics Research Center, Science and Research Campus of Islamic Azad University
Mahmood Sabooni
Department of Physics, Islamic Azad University, Shahrood Branch, Shahrood
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :