اصلاح سطح به روش پلاسمای اکسیژن در میکروتوبول های تراشه های ریز سیالی پلی دی متیل سیلوکسان

در تراشه های میکروسیالی به دلیل اهمیت عوارض سطحی سطوح داخلی و همچنین تلاش به جهت کنترل جریان الکترواسمزی و کاهش اثر متقابل آنالیت دیواره، اصلاح سطح سطوح داخلی مکروتوبول ها اهمیت می یابد. بررسی های انجام شده نشان می دهد اصلاح سطح به شیوه ی پلاسمای اکسیژن در سطوح داخلی تراشه های میکروفلوئیدیکی که از متریال پلی دی متیل سیلوکسان (PDMS) ساخته شده اند، می تواند به تشکیل گروه های سیلانول بر سطوح درون میکروتوبول های تراشه میکروسیالی بیانجامد و سبب تغییر سطوح از آبگریز به آبدوست گردد. بدین منظور تحقیق حاضر با استفاده از روش پلاسمای اکسیژن عملیات بهینه سازی سطوح داخلی کانال های یک تراشه ی میکروسیالی را توسعه بخشید. با توجه به فرایند اصلاح سطح پارامتر زمان به عنوان یک پارامتر کنترل کننده ی فرایند و تاثیر آن بر تغییرات انرژی سطحی و مورفولوژی سطح کانال ها مورد بررسی قرار گرفت. نتایج نشان داد که بهترین شرایط برای جداره ی داخلی کانال های تراشه از جنس PDMS از لحاظ توپوگرافی و انرژی سطحی کانال ها در یک فرآیند تابش پلاسمای اکسیژن با توان ثابت 70 وات و زمان 500 ثانیه حاصل می گردد. به علت تشکیل گروه های سیلانول بر روی سطح پلیمر PDMS، می توان شاهد کاهش اثر متقابل آنالیت دیواره، کنترل جریان الکترواسمزی و آبدوستی سطح که در بسترهای میکروسیالی حایز اهمیت است، بود. نتایج به دست آمده نشان می دهد که عملیات تابش پلاسمای اکسیژن یک روش قابل کنترل با قابلیت کنترل بالا، نسبتا ارزان قیمت با قابلیت اجرایی بالا جهت اصلاح کانال های تراشه های میکروسیالی از جنس PDMS می باشد.

Keywords:

اصلاح سطح , پلاسمای اکسیژن , تراشه میکروسیالی , پلی دی متیل سیلوکسان , میکرو فلوئیدیک چیپ