ساخت لایه نازک شفاف آبگریز پایه سیلیکا
Publish place: The 20th National Conference on Surface Engineering and the First Conference on Damage Analysis and Life Estimation
Publish Year: 1398
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 668
This Paper With 8 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
ISSE20_058
تاریخ نمایه سازی: 22 اردیبهشت 1399
Abstract:
در این پژوهش با استفاده از روش پوشش دهی غوطه وری، لایه نازک شفاف آبگریزی با استفاده از پیش ماده های تتراتیل اورتو سیلیکات (TEOS)، تری متوکسی متیل سیلان (TMMS) و تری کلرومتیل سیلان (TCMS) روی شیشه لام اعمال شد. مورفولوژی و زاویه ترشوندگی پوشش ها توسط میکروسکوپ الکترونی روبشی و دستگاه اندازه گیری زاویه تماس بررسی شد. نتایج نشان داد که با اعمال پوشش، زاویه ترشوندگی از 65/487 به 123/401 درجه افزایش یافت. تصاویر میکروسکوپی الکترونی روبشی نیز توزیع یکنواختی از نانوذرات هیبریدی در زمینه پلیمری نشان دادند. دستگاه سختی سنج مدادی سختی 5H را برای پوشش بدست آمده نشان داد که سختی بسیار مناسبی می باشد.
Keywords:
Authors
مطهره برزواصفهانی
دانشگاه صنعتی مالک اشتر، دانشکده مهندسی مواد (کارشناسی ارشد )
اکبر اسحاقی
دانشگاه صنعتی مالک اشتر، دانشکده مهندسی مواد ( دانشیار)
سیعد رضا بخشی
دانشگاه صنعتی مالک اشتر، دانشکده مهندسی مواد ( دانشیار)
عباسعلی آقایی
دانشگاه صنعتی مالک اشتر، دانشکده مهندسی مواد ( دکتری)