بررسی تاثیر کاشت یون نیتروژن بر خواص لایه نازک اکسید روی (ZnO)
عنوان مقاله: بررسی تاثیر کاشت یون نیتروژن بر خواص لایه نازک اکسید روی (ZnO)
شناسه ملی مقاله: JR_JAPAZ-9-2_004
منتشر شده در شماره 2 دوره 9 فصل در سال 1398
شناسه ملی مقاله: JR_JAPAZ-9-2_004
منتشر شده در شماره 2 دوره 9 فصل در سال 1398
مشخصات نویسندگان مقاله:
فاطمه عظیمی - گروه فیزیک، دانشکده علوم پایه، دانشگاه ملایر
ابراهیم غلامی حاتم - گروه فیزیک، دانشکده علوم پایه، دانشگاه ملایر
خلاصه مقاله:
فاطمه عظیمی - گروه فیزیک، دانشکده علوم پایه، دانشگاه ملایر
ابراهیم غلامی حاتم - گروه فیزیک، دانشکده علوم پایه، دانشگاه ملایر
در این پژوهش، اثر کاشت یون +N در نیم رسانای ZnO (اکسید روی) جهت بررسی تغییرات خواص لایه نازک ZnO بررسی شده است. بدین منظور لایه نازکی از ZnO به ضخامت nm 120 با استفاده از روش کندوپاش تهیه شد و سپس به وسیله یونهای N+ با انرژی keV 50 و شار 1014 (/cm2یون) به مدت زمان 3 ثانیه بمباران شد. تاثیر کاشت یون+N در خواص بلوری ZnO توسط آنالیزXRD (پراش پرتو X) و تغییرات ریختشناسی سطح به وسیله آنالیزهای AFM و SEM بررسی شد. در ادامه، رسانندگی الکتریکی و مقاومت الکتریکی نیز توسط دستگاه کاونده نقطهای بررسی شد. از مقایسه الگوی پراش XRD از نمونه، قبل و بعد از کاشت یون، دریافتیم که خواص بلوری دستخوش تغییرات خاصی نشده است و تنها انتقال بسیار کوچکی به سمت زاویای کوچک تر وجود دارد. در تحلیل نتایج به دست آمده از AFM قبل و بعد از کاشت یون کاهش دوبرابری در مقدار ناهمواری های سطح اکسید روی به چشم می خورد که اثر مثبت کاشت یون نیتروژن را در این لایهها نشان میدهد. همچنین در بررسی تصاویر SEM مشاهده شد که پس از کاشت یون نیتروژن، یکنواختی ذرات بیشتر شده است. مقایسه دادههای حاصل از رسانندگی هم نشان داد که کاشت یون نیتروژن سبب افزایش مقاومت در ساختار اکسید روی جهت استفاده در عایقسازی نواحی مشخص میشود.
کلمات کلیدی: اکسید روی, کاشت یون, لایه نازک
صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/1033809/