بررسی نقشگلو وکلراید موجود در محلول الکترولیتبر روی رفتارپسیوشدن آندهای مسی طی فرآیند پالایشالکتریکی مجتمع مسسرچشمه

افزودنی هایی مانند گلو،کلرایدوتیواوره اغلب بمنظورکنترل ساختارومورفولوژی رسوب مس برروی سطح کاتد ، طی فرآیندپالایش الکتریکی به محلول الکترولیت اضافه می شوند. مطالعات اندکی درخصوص بررسی نقش این افزودنیها روی رفتارپسیوشدن آندهای مسی انجام شده است. درتحقیق حاضر با استفاده از تستهای گالوانواستاتیکاثراین مواد افزودنی برروی رفتارپسیوشدن آندهای تجاری درحضورالکترولیت صنعتی وساختگی حاوی غلظت های متفاوتی ازگلوویون کلراید بررسی وغلظت بهینه وبحرانی این مواد افزودنی درجهت ایجادشرایط بهینه فرآیند پالایش الکتریکی تعیین گردید. نتایج حاصل نشان میدهد که باافزایش غلظت گلو تارسیدن به یکحدبحرانی مدت زمان لازم برای رسیدن به شرایط پسیو شدن tp افزایش و پس از آن کاهش پیدا می کند ولی با افزایش غلظت یون کلراید پارامتر tp روندصعودی خودرا حفظ می کند.

Keywords:

پسیو شدن مس , پالایش الکتریکی , گلو , یون کلراید , گالوانواستاتیک