CIVILICA We Respect the Science
(ناشر تخصصی کنفرانسهای کشور / شماره مجوز انتشارات از وزارت فرهنگ و ارشاد اسلامی: ۸۹۷۱)

مدو لاسیون مکان پالس (PMM)روش جدید ساخت قطعات میکرو اپتیکی مقیاس خاکستری

عنوان مقاله: مدو لاسیون مکان پالس (PMM)روش جدید ساخت قطعات میکرو اپتیکی مقیاس خاکستری
شناسه ملی مقاله: PHOTONICS03_050
منتشر شده در سومین کنفرانس مهندسی فوتونیک ایران در سال 1389
مشخصات نویسندگان مقاله:

آرش ثباتیان - دانشگاه ارومیه ،دانشکده علوم پایه ،گروه فیزیک
علیرضا همت - دانشگاه ارومیه ،دانشکده علوم پایه ،گروه فیزیک
یورگن یانس - دانشگاه فرن هاگن،آلمان

خلاصه مقاله:
برای ساخت قطعات میکرواپتیک مقیاس خاکستری سه روش وجود دارد دراین مقاله روش جدید مدولاسیون مکان پالس ارائه شده است برخلاف روشهای مرسوم دراینجا شدت نور فرودی به روی فوتورزیست با استفاده از برهمنهی دو یا چند توری پراشی دامنه ای کنترل می شود طراحی ماسک پلیت های کرومی مقیاس خاکستری با این روش تست اپتیکی الگوهای بزرگتر از الگوهای اصلی قبل از انتقال نهایی به روی ماسک با استفاده از یک چیدمان اپتیکی و درنهایت ساخت قطعه مورد نظر دراینجا گوه است روی فوتورزیست با استفاده از تکنیک فوتولیتوگرافی شرح داده شده است.

کلمات کلیدی:
پراش، فوتولیتوگرافی، ماسک پلیت مقیاس خاکستری، میکرواپتیک

صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/105656/