تاثیر پارامتر های انباشت بر مورفولوژی لایه های نازک TIO2 تولید شده به روش کندو پاش
Publish place: 03rd Iranian Conference on Photonics Engineering
Publish Year: 1389
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 1,040
متن کامل این Paper منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل Paper (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
PHOTONICS03_091
تاریخ نمایه سازی: 30 آبان 1389
Abstract:
دی اکسید تیتانیم TiO2 بطور گسترده ای در لایه نشانی های اپتیکی استفاده می شود دراین مقاله تاثیر پارامترهای لایه نشانی برلایه های نازک TiO2 بدست آمده توسط انباشت کندوپاش مغناطیسی فرکانس رادیویی مورد مطالعه قرارگرفته است بدین منظور لایه های TiO2 در نرخهای مختلف ارگون نشست یافته اند میکروسکوپ نیروی اتمی غیرتماسی NC-AFMبرای بررسی سطح لایه ها استفاده شده است اطلاعات AFM نشان میدهد که مورفولوژی سطح و زبری به نرخ فلوی گاز ارگون و تعداد ذرات بمباران کننده بستگی دارد.
Keywords:
Authors
زهرا شفیعی زاده
مرکز ملی علوم و فنون لیزر ایران،تهران
جهانبخش مشایخی اصل
مرکز ملی علوم و فنون لیزر ایران،تهران
مهدی انارکی
مرکز ملی علوم و فنون لیزر ایران،تهران
حسن حیدری
مرکز ملی علوم و فنون لیزر ایران،تهران
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :