مریم زارع - خمینیشهر،باشگاه پژوهشگران جوان دانشگاه آزاد اسلامی واحد خمینیشهر
عباس شکرالهی - خمینیشهر،باشگاه پژوهشگران جوان دانشگاه آزاد اسلامی واحد خمینیشهر
فرامرز اسمعیلی سراجی - تهران، مرکز تحقیقات مخابرات ایران، گروه مخابرات نوری
محمدفاضل زارع - تهران، سازمان صنایع هوا- فضا، صنایع شهید شیرودی

در این مقاله شرح ساخت لایههای سیلیسیوم متخلخل متشکل از نانوساختارهارا به روش الکتروشیمیایی بر روی زیرلایه سیلیسیوم نوع p+ ارائه دادیم. مشخصات فیزیکی لایههای ساخته شده را با استفاده از روشجرمسنجی و تصویربرداری AFM وFESEM و مشخصات نوری آن را با استفاده از طیف بازتاب تعیین کردیم. سپسلایه متخلخل به دست آمده را اکسید کرده و تأثیر اکسیداسیون را بر خواص فیزیکی و نوری آن بررسی کردیم. نتایج نشان میدهد که اکسیداسیون گرمایی ابعاد نانوساختارها را افزایشداده و سطح هموارتری به وجود میآورد. از طرفی ضخامت لایه PS با اکسیداسیون افزایشیافته و ضریب شکست لایه حاصل کاهشمییابد. نتیجه این آزمایشمی تواند برای ساخت موجبرهای نوری در فناوری اپتیکمجتمع مورد استفاده قرار گیرد

اکسیداسیون، سیلیسیوم متخلخل، ضخامت نوری، موجبر نوری، نانوساختار