سختی لایه های نیکل سنتز شده به روش MOCVD با استفاده از مدل های جانسون-هوگمارک و مقاومت تناسبی نمونه
Publish place: 9th International Conference & Exhibition on Materials Science & Metallurgical Engineering (iMat2020)
Publish Year: 1399
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 388
This Paper With 16 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
IMES14_011
تاریخ نمایه سازی: 1 دی 1399
Abstract:
در این پژوهش لایه های نیکلی با روش لایه نشانی بخار شیمیایی به کمک ترکیبات آلی- فلزی (MOCVD) با استفاده از احیای استیل استون نیکل ((Ni(C(5)H(7)O(2) به عنوان پیش ماده توسط گاز هیدروژن در دماهای لایه نشانی 260، 320 و 350˚C سنتز با استفاده از میکروسکوپ الکترونی روبشی و ساختار فازی آنها با ثبت الگوهای تفرق اشعه X بررسی شد. سختی مرکب لایه و زیرلایه در بارهای 10، 25 و 50 گرم با استفاده از ریزسختی ویکرز اندازه گیری شد. جهت برای حصول سختی ذاتی لایه ها به ترتیب برای با حذف اثر زیرلایه و اثر استفاده از بارهای کم از مدل های جانسون- هوگمارک و مقاومت تناسبی نمونه (PSR) استفاده شد. نتایج نشان داد بیشترین سختی برای لایه های نیکل سنتز شده در 260˚C معادل (137/1H(v به دست می آید و با افزایش دمای لایه نشانی سختی لایه ها کاهش پیدا می کند. تلفیق دو مدل نتایج دقیق تری را در اندازه گیری سختی لایه ها باافزایش دمای لایه نشانی نشان داد.
Keywords:
Authors
طاهره قلی زاده
دانشجوی دکتری مهندسی مواد و متالورژی- دانشگاه صنعتی سهند
علیرضا اکبری
استاد مهندسی مواد (مهندسی سطح – خواص مکانیکی – نانو مواد)- دانشگاه صنعتی سهند
زهرا مصطفوی
فارغ التحصیل کارشناسی ارشد مهندسی مواد- نانو مواد- دانشگاه صنعتی سهند