نفیسه فرشته صنیعی - کارشناسی مهندسی مواد، گروه مواد، دانشکده ی مهندسی، دانشگاه بوعلی سینا
حسن علم خواه - استادیار فناوری نانو، گروه مواد، دانشکده ی مهندسی، دانشگاه بوعلی سینا
آرش فتاح الحسین - دانشیار خوردگی، گروه مواد، دانشکده ی مهندسی، دانشگاه بوعلی سینا
امید ایمان طلب - استادیار خوردگی، گروه مواد، دانشکده ی مهندسی، دانشگاه بوعلی سینا

هدف از پژوهش حاضر، اعمال پوشش نانولایه ی CrN/CrAlN بر زیرلایه ی تیتانیوم خالص تجاری برای کاربردهای مهندسیبیومواد است. به همین منظور از رسوب گذاری فیزیکی از فاز بخار با روش تبخیر قوس کاتدی (Arc-PVD) استفاده شد. جهتاعمال پوشش روی زیرلایه، پوشش دهی در دمای 200 درجه سلسیوس به مدت 90 دقیقه و تحت ولتاژ بایاس 100- ولت صورتگرفت. در نهایت یک پوشش با متوسط ضخامت حدود 3/5 میکرون با موفقیت ایجاد شد. به منظور تعیین ساختار بلوری و بررسیمیکروساختار پوشش به ترتیب از دستگاه پراش پرتو ایکس (XRD) و میکروسکوپ الکترونی روبشی (SEM) استفاده شد.همچنین، ارزیابی استحکام چسبندگی با استفاده از آزمو ن راکول C (Rockwell-C) و رفتار خوردگی پوشش با استفاده ازآزمون های پلاریزاسیون پتانسیودینامیک و طیفسنجی امپدانس الکتروشیمیایی (EIS) در محلول رینگر (0/9 درصد وزنی NaCl)صورت گرفت. بر اساس نتایج به دست آمده، با اعمال پوشش، پتانسیل خوردگی از 0/386- به 0/054- ولت و چگالی جریانخوردگی از (8 -) 10 × 5/19 به (9-) 10 × 9 آمپر بر سانتی متر مربع تغییر یافت. علاوه بر این، افزایش قطر حلقه های خازنی در اثراعمال پوشش CrN/CrAlN، رفتار خوردگی بهتر نمونه پوشش دار را در مقایسه با زیرلایه نشان داد. نتایج حاصل بیانگر آن استکه پوشش ایجاد شده می تواند به عنوان سدی در برابر رسیدن محلول خورنده به زیرلایه عمل کند.

پوشش CrN/CrAlN، تبخیر قوس کاتدی، محلول رینگر، خوردگی، پلاریزاسیون پتانسیودینامیک، طی فسنجی امپدانس الکتروشیمیایی