غلامرضا فغانی - دکتری، دانشکده مکانیک، دانشگاه پدافند هوایی خاتم الانبیاء(ص)، تهران، ایران
مهدی عزیزی - دانشجوی کارشناسی، دانشکده فرماندهی و کنترل، دانشگاه پدافند هوایی خاتم الانبیاء(ص)، تهران، ایران
سهیل نوربخش - دانشجوی کارشناسی، دانشکده فرماندهی و کنترل، دانشگاه پدافند هوایی خاتم الانبیاء(ص)، تهران، ایران

در این تحقیق خواص فیلم های کامپوزیتی سیلیسیم دی اکسید به همراه دی اکسیدتیتانیوم و همچنین سیلیسیم دی اکسید به همراه اکسید روی ایجادشده به روش سُل- ژل بررسی شد. در این کار، تأثیرات دمای تنش زدایی روی خواص نوری و ساختاری فیلم های نازک SiO2 با جزئیات مورد بحث قرار گرفته است. فیلم های کامپوزیتی TiO2/SiO2 و ZnO/SiO2 با روش لایه نشانی غوطه وری سل-ژل تهیه شدند. مورفولوژی سطح، ساختار کریستالی فیلمهای نازک و خصوصیات نانوذرات سنتز شده SiO2/TiO2 و SiO2/ZnO با استفاده از طیف سنجی -UV مرئی، میکروسکوپ الکترونی روبشی (SEM) با آنالیز پراش اشعه ایکس المانی (EDX ) و پراش اشعه ایکس (XRD) بررسی شد. تصاویر FESEM نشان داد که پوشش SiO2 روی نانوذرات باعث افزایش اندازه آنها تا حدود 30 nm شده است. به منظور فعالیت فوتوکاتالیستی از طریق بررسی تخریب و بدون رنگ شدن رنگینه ی آزوی Congo Red (CR) با نور UV مصنوعی انجام شد که فعالیت فتوکاتالیستی هر دو نوع نانوذرات SiO2 تا حدودی کاهش داشت. با این حال، فعالیت فتوکاتالیستی نانوذرات ZnO بعد از پوشش دهی با SiO2 به طور کامل از بین رفت.

سنتز سُل- ژل، فتوکاتالیست، فیلم کامپوزیتی، TiO2/SiO2، ZnO/SiO2