محبوبه زراوشان - گروه زیست شناسی، دانشکده علوم، دانشگاه گلستان، گرگان
احمد عبدل زاده - استاد گروه زیست شناسی، دانشکده علوم، دانشگاه گلستان
حمیدرضا صادقی پور - گروه زیستشناسی، دانشکده علوم، دانشگاه گلستان، گرگان، ایران
پویان مهربان جوبنی - گروه علوم پایه، دانشکده علوم دامی و شیلات، دانشگاه علوم کشاورزی و منابع طبیعی ساری، ساری، ایران

تنش شوری یکی از عواملی است که رشد و عملکرد ذرت را تهدید می‌کند. اثرات کاربرد سیلیکون معدنی و یا نانوسیلیکون در تخفیف شوری در برخی گیاهان گزارش شده است. به این منظور اثرات تغذیه برگی سیلیکون معدنی و نانو در تخفیف اثرات تنش شوری در رشد و برخی عوامل بیوشیمایی و فتوسنتزی در گیاه ذرت مورد بررسی و مقایسه قرار گرفت. آزمایشات در قالب طرح کاملاً تصادفی و در قالب فاکتوریل به‌صورت کشت گلدانی انجام شد. فاکتور اول شوری در دو سطح 0 و 100 میلی‌مولار کلریدسدیم و سیلیکون در سطوح شاهد (بدون سیلیکون)، 2 میلی‌مولار سیلیکات پتاسیم و 2 میلی‌مولار نانوسیلیکون SiO2 بود. تحت تنش شوری، میزان وزن تر و خشک بخش هوایی و ریشه، میزان کلروفیل‌ها و کاروتنوئیدها و میزان پروتئین‌های محلول نسبت به شاهد به صورت معنی‌داری کاهش و در مقابل میزان پراکسیدهیدروژن و مالون دی‌آلدهید این گیاهان افزایش یافت. همچنین، تنش شوری میزان فتوسنتز و کارآیی مصرف آب گیاهان را کاهش داد. کاربرد سیلیکون و نانوسیلیکون رشد گیاهان تحت شوری را بهبود بخشید و موجب افزایش شدت فتوسنتز و میزان رنگدانه‌های فتوسنتزی در آنها شد. به علاوه، کاهش شدید تعرق با کاربرد سیلیکون نسبت به نانوسیلیکون سبب افزایش بیشتر راندمان مصرف آب در این تیمار شد. همچنین کاربرد سیلیکون فعالیت آنزیم پراکسیداز محلول را در گیاهان تحت شوری افزایش داد که با کاربرد نانوسیلیکون مشاهده نشد. این امر کاهش بیشتر پراکسیدهیدروژن و پراکسیداسیون لیپید گیاهان تحت شوری با تیمار سیلیکون نسبت به نانوسیلیکون را به دنبال داشت که کاهش بیشتر تنش اکسیدایتو در این تیمار را به نمایش گذاشت این نتایج نشان داد که تخفیف تنش و افزایش رشد گیاهان تحت شوری با کاربرد سیلیکون نسبت به نانوسیلیکون بیشتر بود که احتمالاً به کاهش بیشتر تنش اکسیداتیو در این تیمار مربوط است.  

تنش کلرید سدیم, سیلیکون, فتوسنتز, تنش اکسیداتیو