خدیجه فرهادیان - دانشجوی کارشناسی ارشد، دانشکده مواد و صنایع، دانشگاه صنعتی نوشیروانی بابل ، بابل، ایران
مرضیه عباسی فیروزجاه - استادیار، گروه علوم مهندسی، دانشگاه حکیم سبزواری، سبزوار، ایران
مجید عباسی - دانشیار، دانشکده مواد و صنایع، دانشگاه صنعتی نوشیروانی بابل ، بابل، ایران

در این پژوهش لایه های اکسید مس (CuO) به روش کندوپاش واکنشی روی زیرلایه های شیشه ای در دمای اتاق، 350˚Cلایه نشانی شده اند. فرایند لایه نشانی در فشار (2-)10×1 تور و نسبت گازهای O:Ar به ترتیب برابر 2:1انجام شد. برای مشخصه یابی و ارزیابی خواص ساختاری و اپتیکی لایه های نازک اکسید مس از دستگاه پراش اشعهایکس (XRD) و دستگاه طیف سنج Uv-Vis استفاده شد. نتایج XRD نشان می دهد که افزایش دمای زیرلایه سببرشد در جهت گیری های ترجیحی مختلف و افزایش اندازه کریستالیت ها از 19nm به 38nm می گردد. همچنین،نتایج طیف های اپتیکی نیز نشان دهنده کاهش گاف نواری لایه ها، با افزایش دمای زیرلایه است.

کندوپاش، اکسید مس، خواص ساختاری، خواص اپتیکی، گاف نواری