CIVILICA We Respect the Science
(ناشر تخصصی کنفرانسهای کشور / شماره مجوز انتشارات از وزارت فرهنگ و ارشاد اسلامی: ۸۹۷۱)

فناوری SOI مزایا ، مشکلات و کاربردهای آن

عنوان مقاله: فناوری SOI مزایا ، مشکلات و کاربردهای آن
شناسه ملی مقاله: ISCEE10_035
منتشر شده در دهمین کنفرانس دانشجویی مهندسی برق ایران در سال 1386
مشخصات نویسندگان مقاله:

مریم نیری - عضو هیئت علمی دانشگاه آزاد اسلامی یزد
مهدیه نیری - عضو باشگاه پژوهشگران جوان دانشگاه آزاد اسلامی واحدی زد
زینب السادات مظفری - عضو باشگاه پژوهشگران جوان دانشگاه آزاد اسلامی واحدی زد

خلاصه مقاله:
در دهه های اخیر فناوری الکترونیک حالت جامد توسعه چشمگیری داشته است سیلیسیم همواره بخشعمده صنایع نیمههادی را به خود اختصاص داده است در میان فناوریهای مختلف مبتنی بر سیلیسیم فناوری SOI از جایگاه ویژه ای برخوردار بوده است دراین فناوری یک لایه نازک اکسید مدفون بر روی ویفر سیلیسیمی نشانده می شود و سپس یک لایه سیلیسیمی نازک و یا ضخیم برروی آن قرار میگیرد دو روشاساسی پیوند ویفر و SIMOX برای ساخت SOI وجو د دارد البته ویفرهای ساخته شده به روش پیوند ویفرکیفیت بالاتری نسبت به SIMOX دارند به خاطر وجود مزایایی که ساختار SOI نسبت به SI دارد این ساختار برای ساخت مدارات مجتمع استفاده می شود.

کلمات کلیدی:
فناوری SOI، ادوات SOI MOSFE، اثرات بدنه شناور، کارتهای هوشمند، ادوات نانوحافظه

صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/127422/