Publisher of Iranian Journals and Conference Proceedings

Please waite ..
Publisher of Iranian Journals and Conference Proceedings
Login |Register |Help |عضویت کتابخانه ها
Paper
Title

مدل سازی ریاضی و شبیه سازی فرآیند لایه نشانی اکسید روی در پلاسمای Ar/O۲

فصلنامه مهندسی برق و الکترونیک ایران، دوره: 18، شماره: 4
Year: 1400
COI: JR_JIAE-18-4_013
Language: PersianView: 88
This Paper With 10 Page And PDF Format Ready To Download

Buy and Download

با استفاده از پرداخت اینترنتی بسیار سریع و ساده می توانید اصل این Paper را که دارای 10 صفحه است به صورت فایل PDF در اختیار داشته باشید.
آدرس ایمیل خود را در کادر زیر وارد نمایید:

Authors

مریم شکیبا - Jundi-Shapur University of Technology
محسن شکیبا - Jundi-Shapur University of Technology

Abstract:

 نظر به کاربرد گسترده لایه های نازک اکسید روی در ساخت حسگرها و سلول های خورشیدی نسل دوم و سوم، هدف از این تحقیق، تحلیل و شبیه­ سازی فرآیند لایه­ نشانی اکسید روی در سامانه کندوپاش مگنترونی مستقیم است. در این راستا، ابتدا مدل­ ریاضی ارائه شده برای فرآیند لایه­ نشانی در نرم­ افزار RSD۲۰۱۳، مورد مطالعه و بررسی قرار گرفته و پس از آن نتایج حاصل از شبیه­ سازی فرآیند لایه ­نشانی اکسید روی با استفاده از تارگت روی، در پلاسمای Ar/O۲،  تجزیه و تحلیل شده ­اند. همچنین، با توجه به تاثیر مشخصه­ های پلاسما بر فرآیند لایه­ نشانی، از نرم­ افزار XPDP۱ به منظور شبیه­ سازی پلاسمای سامانه کندوپاش استفاده شده است. معادلات دیفرانسیلی وابسته به زمان استفاده شده در RSD۲۰۱۳، بسیاری از پدیده­ های فیزیکی از جمله جذب شیمیایی گاز واکنشی از طریق تارگت و زیرلایه، لانه گزینی مستقیم و ضربه ­ای ذرات گاز واکنشی در تارگت، تشکیل ترکیبات کامپوند در نواحی زیر سطح تارگت، رسوب ذرات اسپاتر شده از تارگت روی سطح زیرلایه و بازگشت کسری از آن ذرات به سمت تارگت، و نیز رسوب مجدد ذرات اسپاتر شده روی سطح تارگت را در بر دارد. نتایج حاصل از شبیه­ سازی، در بهبود کیفیت اکسید روی لایه­ نشانی شده در سامانه­ های عملی کندوپاش واکنشی موثر خواهد بود.

Keywords:

Mathematical modeling of ZnO Growth , DC Magnetron sputtering system , RSD۲۰۱۳ Software , Ar/O۲ plasma , XPDP۱ Software , مدل سازی ریاضی لایه نشانی اکسید روی , سامانه کندوپاش مگنترونی مستقیم , نرم افزار RDS۲۰۱۳ , پلاسمای Ar/O۲ , نرم افزار XPDP۱

Paper COI Code

This Paper COI Code is JR_JIAE-18-4_013. Also You can use the following address to link to this article. This link is permanent and is used as an article registration confirmation in the Civilica reference:

https://civilica.com/doc/1294884/

How to Cite to This Paper:

If you want to refer to this Paper in your research work, you can simply use the following phrase in the resources section:
شکیبا، مریم و شکیبا، محسن،1400،مدل سازی ریاضی و شبیه سازی فرآیند لایه نشانی اکسید روی در پلاسمای Ar/O۲،https://civilica.com/doc/1294884

مراجع و منابع این Paper:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :

  • W. D. Davis and T. A. Vanderslice, "Ion energies at ...
  • K. Rickards, "Energies of particles at the cathode of a ...
  • Z. Wronski, "Ion energy distributions in a special glow-discharge source", ...
  • G. A. Hebner, J. T. Verdeyen, and M. J. Kushner, ...
  • G. G. Lister, "Low-pressure gas discharge modeling", J. Phys. D, ...
  • J. P. Verboncoeur, M. V. Alves, V. Vahedi, and C. ...
  • V.Vahedi,R. W. Stewart, and M. A. Lieberman, "Analytic model of ...
  • V. Vahedi and M. Suranda, "A Monte Carlo Collision model ...
  • C. K. Birdsall and A. B. Langdon, "Plasma Physics via ...
  • Plasma Theory and Simulation Group at University of California, Berkeley. ...
  • Mattox DM, "Handbook of physical vapor deposition (PVD) processing", William ...
  • Klaus Ellmer, "Magnetron sputtering of transparent conductive zinc oxide: relation ...
  • D Depla, S Heirwegh, S Mahieu and R De Gryse, ...
  • Tuan Anh Pham, Yuan Ping, Giulia Galli, "Modelling heterogeneous interfaces ...
  • V P Parkhutik, V I Shershulsky, "Theoretical modelling of porous ...
  • A.M.K.Dagamseh, B.Vet, P.Šutta, M.Zeman, "Modelling and optimization of a-Si:H solar ...
  • محمدجواد کیانی، مسلم زارع، "طراحی وساخت حسگراکسید قلع با حساسیت ...
  • محمدجواد کیانی، علیرضا صالحی، "لایه نشانی نازک سنسور گازی مبتنی ...
  • شه روز نصیریان، محمد مهدی شکروی، "مطالعه ی اثر رطوبت ...
  • K Strijckmans and D Depla, "A time-dependent model for reactive ...
  • مریم شکیبا، " بررسی و تنظیم شرایط رسوب لایه نازک ...
  • I. Safi, "A novel reactive magnetron sputtering technique for producing ...
  • D. Depla, S. Mahieu, R. De Gryse, "Magnetron sputter deposition: ...
  • D. Depla, X. Y. Li, S. Mahieu, K. V. Aeken, ...
  • S. Berg, H. O. Blom, T. Larsson and Nender, "Modeling ...
  • K. Strijckmans, W. P. Leroy, R. D. Gryse and D. ...
  • K. Strijckmans and D. Depla, "A time-dependent model for reactive ...
  • A. Bogaerts, E. Bultinck, I. Kolev, L. Schwaederle, K.V. Aeken, ...
  • E. Bultinck, "Numerical simulation of a magnetron discharge utilized for ...
  • D. Depla, and R. D. Gryse, "Influence of oxygen addition ...
  • D. Depla, S. Heirwegh, S. Mahieu, J. Haemers and R. ...
  • W. Vandervorst, T. Janssens, C. Huyghebaert and B. Berghmans, "The ...
  • W. P. Leroy, S. Mahieu, R. Persoons and D. Depla, ...
  • K. Strijckmans, D. Depla, "Modeling target erosion during reactive sputtering", ...
  • www.wxwidgets.org[۳۷] D. Depla and R. D. Gryse, "Cross section for ...
  • D. Depla, J. Haemers and R. D. Gryse, "Discharge voltage ...
  • A. Kosarian, M. Shakiba, E. Farshidi, “Role of Hydrogen Treatment ...
  • M. Shakiba, A. Kosarian & E. Farshidi, “Effects of processing ...
  • A. Kosarian, M. Shakiba, E. Farshidi, “Role of sputtering power ...
  • W. D. Davis and T. A. Vanderslice, "Ion energies at ...
  • K. Rickards, "Energies of particles at the cathode of a ...
  • Z. Wronski, "Ion energy distributions in a special glow-discharge source", ...
  • G. A. Hebner, J. T. Verdeyen, and M. J. Kushner, ...
  • G. G. Lister, "Low-pressure gas discharge modeling", J. Phys. D, ...
  • J. P. Verboncoeur, M. V. Alves, V. Vahedi, and C. ...
  • V.Vahedi,R. W. Stewart, and M. A. Lieberman, "Analytic model of ...
  • V. Vahedi and M. Suranda, "A Monte Carlo Collision model ...
  • C. K. Birdsall and A. B. Langdon, "Plasma Physics via ...
  • Plasma Theory and Simulation Group at University of California, Berkeley. ...
  • Mattox DM, "Handbook of physical vapor deposition (PVD) processing", William ...
  • Klaus Ellmer, "Magnetron sputtering of transparent conductive zinc oxide: relation ...
  • D Depla, S Heirwegh, S Mahieu and R De Gryse, ...
  • Tuan Anh Pham, Yuan Ping, Giulia Galli, "Modelling heterogeneous interfaces ...
  • V P Parkhutik, V I Shershulsky, "Theoretical modelling of porous ...
  • A.M.K.Dagamseh, B.Vet, P.Šutta, M.Zeman, "Modelling and optimization of a-Si:H solar ...
  • محمدجواد کیانی، مسلم زارع، "طراحی وساخت حسگراکسید قلع با حساسیت ...
  • محمدجواد کیانی، علیرضا صالحی، "لایه نشانی نازک سنسور گازی مبتنی ...
  • شه روز نصیریان، محمد مهدی شکروی، "مطالعه ی اثر رطوبت ...
  • K Strijckmans and D Depla, "A time-dependent model for reactive ...
  • مریم شکیبا، " بررسی و تنظیم شرایط رسوب لایه نازک ...
  • I. Safi, "A novel reactive magnetron sputtering technique for producing ...
  • D. Depla, S. Mahieu, R. De Gryse, "Magnetron sputter deposition: ...
  • D. Depla, X. Y. Li, S. Mahieu, K. V. Aeken, ...
  • S. Berg, H. O. Blom, T. Larsson and Nender, "Modeling ...
  • K. Strijckmans, W. P. Leroy, R. D. Gryse and D. ...
  • K. Strijckmans and D. Depla, "A time-dependent model for reactive ...
  • A. Bogaerts, E. Bultinck, I. Kolev, L. Schwaederle, K.V. Aeken, ...
  • E. Bultinck, "Numerical simulation of a magnetron discharge utilized for ...
  • D. Depla, and R. D. Gryse, "Influence of oxygen addition ...
  • D. Depla, S. Heirwegh, S. Mahieu, J. Haemers and R. ...
  • W. Vandervorst, T. Janssens, C. Huyghebaert and B. Berghmans, "The ...
  • W. P. Leroy, S. Mahieu, R. Persoons and D. Depla, ...
  • K. Strijckmans, D. Depla, "Modeling target erosion during reactive sputtering", ...
  • www.wxwidgets.org[۳۷] D. Depla and R. D. Gryse, "Cross section for ...
  • D. Depla, J. Haemers and R. D. Gryse, "Discharge voltage ...
  • A. Kosarian, M. Shakiba, E. Farshidi, “Role of Hydrogen Treatment ...
  • M. Shakiba, A. Kosarian & E. Farshidi, “Effects of processing ...
  • A. Kosarian, M. Shakiba, E. Farshidi, “Role of sputtering power ...

Research Info Management

Certificate | Report | من نویسنده این مقاله هستم

اطلاعات استنادی این Paper را به نرم افزارهای مدیریت اطلاعات علمی و استنادی ارسال نمایید و در تحقیقات خود از آن استفاده نمایید.

Share this page

More information about COI

COI stands for "CIVILICA Object Identifier". COI is the unique code assigned to articles of Iranian conferences and journals when indexing on the CIVILICA citation database.

The COI is the national code of documents indexed in CIVILICA and is a unique and permanent code. it can always be cited and tracked and assumed as registration confirmation ID.

Support