ترسیب الکتروشیمیایی و بررسی مقاومت به خوردگی پوشش های نانوکامپوزیتی Ni-W-P/SiO۲

در این تحقیق، پوشش های نانوکامپوزیتی Ni-W-P/SiO۲ با همرسوبی الکتروشیمیایی نانوذرات SiO۲ با آلیاژ Ni-W-P و در محلولهایی با مقادیر مختلف این نانوذرات بر روی سطح مس ایجاد شده اند. ترکیب و ساختار پوشش ها با استفاده از میکروسکوپ الکترونی روبشی (SEM)و طیف سنجی پراش انرژی پرتو ایکس (EDS)مطالعه شد. نتایج نشان داد که مشارکت نانوذرات سیلیس در پوشش های کامپوزیتی Ni-W-P/SiO۲ موجب افزایش یکنواختی و صافی سطح پوشش ها می شود. تکنیک های پتانسیل مدار باز (OCP)، طیف سنجی امپدانس الکتروشیمیایی (EIS) و پلاریزاسیون تافل در محلول NaCl %۵/۳ جهت ارزیابی مقاومت به خوردگی این پوششها استفاده شد. نتایج این مطالعات نشان داد که پوشش های نانوکامپوزیتی حاصل در مقایسه با پوشش آلیاژی Ni-W-P از مقاومت به خوردگی بسیار بالاتری برخوردارند. با افزودن نانو ذرات SiO۲ به محلول پوشش دهی در ابتدا مقاومت به خوردگی افزایش و سپس به دلیل آگلومره شدن نانو ذرات کاهش می یابد. بیشترین مقاومت به خوردگی برای پوشش کامپوزیتی سنتز شده از محلولی حاوی g/L۹ از نانو ذراتSiO۲ بدست آمد. از دلایل اصلی مقاومت به خوردگی بالای این پوشش می توان به دارا بودن بیشترین مقدار ذرات تقویت کننده SiO۲ درماتریکس فلزی و ساختاری نانومتری و فاقد عیوب سطحی و میکروترک اشاره کرد.

Keywords:

پوشش نانوکامپوزیتی Ni-W-P/SiO۲ , همرسوبی , رفتار خوردگی , طیف سنجی امپدانس الکتروشیمیایی