مقاومت بالای گیاه دارویی فلومیس توبروزا به تنش مس با واسطه انباشت نیتریک اکساید

در این پژوهش، تاثیر غلظت های مختلف مس بر فعالیت دستگاه فتوسنتزی و ظرفیت آنتی اکسیدانت گیاه فلومیس توبروزا (Phlomis tuberosa) مورد بررسی قرار گرفت. گیاهان در محیط پرلیت به مدت ۵ هفته رشد کردند و سپس با غلظت های ۰، ۱۰۰، ۲۰۰، ۳۰۰ و ۴۰۰ میکرومولار مس به مدت ۲۱ روز تیمار شدند. نتایج نشان داد که گیاه فلومیس توبروزا نسبت به ۱۰۰ و ۲۰۰ میکرومولار مس مقاوم است. این مقاومت به واسطه افزایش ظرفیت سیستم آنتی اکسیدانت گیاه حاصل شد. با این حال غلظت های زیاد مس (۳۰۰ و۴۰۰ میکرومولار) تنش زا بودند و باعث افزایش انباشت پراکسید هیدروژن (H۲O۲) و مالون دی آلدئید (MDA) و کاهش معنی دار فعالیت کمپلکس آزاد کننده اکسیژن (Fv/Fo) و شاخص کارآیی فتوسیستم II (PIabs) گردیدند. براساس شاخص غلظت موثر (EC۵۰ یعنی غلظتی از فلز که منجر به کاهش ۵۰ درصدی تولید ماده خشک می شود)، آستانه سمیت مس برای گیاه فلومیس توبروزا، غلظت ۳۰۰ میکرومولار تعیین گردید. جالب آنکه گیاهانی که در معرض سطوح متوسط مس به مدت ۲۱ روز قرار گرفته بودند، بالاترین مقادیر انباشت نیتریک اکساید (NO) را نشان دادند و این انباشت با بالاترین فعالیت آنزیم های آنتی اکسیداتیو و همچنین تداوم فتوسنتز همراه بود.  

Keywords:

toxicity thresholds , effective concentration , photosystem II , chlorophyll a fluorescence , Phlomis tuberosa , copper , nitric oxide , آستانه سمیت , غلظت موثر , فتوسیستمII , فلورسانس کلروفیل a , فلومیس توبروزا , مس , نیتریک اکساید