بهاره آذروند حسن فرد - گروه فیزیک، دانشگاه پیام نور، صندوق پستی ۳۶۹۷-۱۹۳۹۵، تهران، ایران
خدیجه ابراهیمی اردی - گروه فیزیک، دانشگاه پیام نور، صندوق پستی ۳۶۹۷-۱۹۳۹۵، تهران، ایران

در این کار تجربی لایه­های نازک دی­اکسید قلع آلاییده با آلومینیوم با ترکیب­های مختلفی از ۵ تا ۱۰ درصد جرمی آلومینیوم و ۹۵ تا ۹۰ درصد جرمی دی­اکسید قلع بوسیله تبخیر با باریکه الکترونی بر روی زیرلایه­های شیشه­ای نهشته شدند. سپس تاثیر غلظت آلاینده آلومینیوم و ضخامت بر خواص الکتریکی، اپتیکی و ساختاری این لایه­ها بررسی شد. خواص این لایه­های نازک بوسیله پراش پرتو X، اسپکتروفوتومتر UV- VISو پروب چهارسوزنی بررسی شد. طیفXRD  بدست آمده بر حسب افزایش درصد ناخالصی نشان داد که همه لایه­ها جهت ترجیحی(۱۱۰) را نشان می­دهند و ساختار بس­بلوری دارند که با افزایش میزان ناخالصی اندازه دانه­ها کاهش یافته، تعداد و شدت پیک­های ظاهر شده کم شده و بلورینگی در این لایه­ها کاهش یافته است. همچنین با افزایش ضخامت لایه­ها، میزان شفافیت لایه­ها و مقاومت ویژه کاهش می­یابند، بنحوی که در مورد لایه­های با ۵/۷ % جرمی آلومینیوم، مقدار میانگین عبور لایه­ها از مقدار ۵/۸۸ % برای نمونه­ای با ضخامت ۲۵۰ نانومتر به مقدار ۳/۸۲ % برای نمونه­ای با ضخامت ۴۵۰ نانومتر کاهش می­یابد. همچنین مقاومت ویژه به کمترین مقدار خود یعنی  ۴-۱۰×۲۴۷/۵ اهم- سانتیمتر برای نمونه­ای با ضخامت ۴۵۰ نانومتر می­رسد.

لایه های نازک, دی اکسید قلع آلاییده با آلومینیوم, پراش پرتو ایکس, شفافیت اپتیکی, مقاومت ویژه