امیرحسین نویدپور - دانشگاه صنعتی اصفهان، دانشکده مهندسی مواد
مهران آذرپور سیاهکلی - دانشگاه صنعتی اصفهان، دانشکده مهندسی مواد
مهدی صالحی - دانشگاه صنعتی اصفهان، دانشکده مهندسی مواد
یعقوب کلانتری - دانشگاه صنعتی اصفهان، دانشکده مهندسی مواد
مهدی امیرنصر - دانشگاه صنعتی اصفهان، دانشکده شیمی
مسعود ریسمانچیان - دانشگاه اصفهان، دانشکده بهداشت

روش­های متعددی برای تخریب آلاینده­های آلی مورد استفاده قرار گرفته­اند که در این بین، فرآیند فتوکاتالیتیکی به دلیل برخی ویژگی­های منحصر به فرد مورد توجه قرار گرفته است. در این پژوهش، پوشش­های فتوکاتالیست متشکل از دی اکسید تیتانیم (TiO۲) و مگنتیت (Fe۳O۴)به روش پاشش حرارتی HVOF تولید شدند. پودرهای TiO۲ (با ۷۵% آناتاز و ۲۵% روتیل) و Fe۳O۴ تجاری با درصدهای متفاوت با یکدیگر مخلوط و بر روی زیرلایه­ای از جنس فولاد زنگ نزن ۳۱۶ رسوب داده شدند. برای ارزیابی ساختار، مورفولوژی و توانایی جذب نور پوشش­ها (با نسبت­های مختلف Fe۳O۴) به ترتیب از پراش پرتو ایکس(XRD)، میکروسکوپ الکترونی روبشی(SEM) و اسپکتروفتومتر UV-Vis-NIR استفاده شده است. به علاوه، ارزیابی بازده فتوکاتالیتیکی پوشش­ها با توانایی تجزیه گاز زایلن تحت تابش نور مریی و UV در فتوراکتور گازی دینامیک انجام شد. نتایج ارزیابی­ها نشان داد که افزودن مقدار بهینه پودر Fe۳O۴ بر فعالیت فتوکاتالیتیکی پوشش TiO۲ در محدوده نور UV و مریی تاثیر می­گذارد. با افزودن ۵/۷ درصد وزنی مگنتیت، راندمان فرآیند به بیش از ۳۵ درصد رسیده است (تحت تابش پرتو UV). هم چنین با افزودن ۱۰ درصد وزنی مگنتیت، راندمان فرآیند با استفاده از نور مریی به نزدیکی ۴ درصد رسیده است.

پوشش, فتوکاتالیست, دی اکسید تیتانیم, مگنتیت, HVOF