بررسی ممانعت کنندگی دوشیف باز جدید برروی مس در اسید سولفوریک نیم مولار
Publish place: 01st joint conference of Iranian Metallurgical Engineers Society and Iranian Foundry men
Publish Year: 1386
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 650
This Paper With 10 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
IMES01_058
تاریخ نمایه سازی: 29 اسفند 1390
Abstract:
مطالعه بازدارندگی دوشیف باز با نامهای bis-(2-hydroxy-3-methoxy)-1,6-diaminohexane salicyladimine و bis-(2-hydroxy)-1,6-diaminohexane salicyladimine روی مس دراسید سولفوریک نیم مولار با استفاده از روشهای الکتروشیمیایی AC امپدانس و پلاریزاسیون تافل انجام شده است نتایج بدست آمده از منحنیهای نایکوئیست نشان میدهد که افزایش غلظت این دو شیف باز باعث افزایش مقاومت انتقال بار و کاهش ظرفیت لایه دوگانه و درنتیجه باعث افزایش راندمان حفاظت آنها برای مس دراسید سولفوریک نیم مولار شده است این دو شیف باز ممانعت کننده های مناسبی برای مس دراسید سولفوریک نیم مولار هستند و هر دو ماده از نوع ممانعت کننده های آندی می باشند و بصورت جذب شیمیایی برروی سطح مس مانع از خوردگی آن می شود و این دو شیف باز از جذب ایزوترم لانگمیر پیروی می کنند.
Keywords:
Authors
فاطمه بقایی راوری
عضو هیئت علمی بخش مهندسی متالوژی دانشگاه شهید باهنر کرمان
اطهره دادگری نژاد
عضو هیئت علمی بخش مهندسی متالوژی دانشگاه شهید باهنر کرمان