CIVILICA We Respect the Science
(ناشر تخصصی کنفرانسهای کشور / شماره مجوز انتشارات از وزارت فرهنگ و ارشاد اسلامی: ۸۹۷۱)

بررسی ممانعت کنندگی دوشیف باز جدید برروی مس در اسید سولفوریک نیم مولار

عنوان مقاله: بررسی ممانعت کنندگی دوشیف باز جدید برروی مس در اسید سولفوریک نیم مولار
شناسه ملی مقاله: IMES01_058
منتشر شده در اولین همایش مشترک انجمن مهندسین متالورژی و انجمن ریخته گری ایران در سال 1386
مشخصات نویسندگان مقاله:

فاطمه بقایی راوری - عضو هیئت علمی بخش مهندسی متالوژی دانشگاه شهید باهنر کرمان
اطهره دادگری نژاد - عضو هیئت علمی بخش مهندسی متالوژی دانشگاه شهید باهنر کرمان

خلاصه مقاله:
مطالعه بازدارندگی دوشیف باز با نامهای bis-(2-hydroxy-3-methoxy)-1,6-diaminohexane salicyladimine و bis-(2-hydroxy)-1,6-diaminohexane salicyladimine روی مس دراسید سولفوریک نیم مولار با استفاده از روشهای الکتروشیمیایی AC امپدانس و پلاریزاسیون تافل انجام شده است نتایج بدست آمده از منحنیهای نایکوئیست نشان میدهد که افزایش غلظت این دو شیف باز باعث افزایش مقاومت انتقال بار و کاهش ظرفیت لایه دوگانه و درنتیجه باعث افزایش راندمان حفاظت آنها برای مس دراسید سولفوریک نیم مولار شده است این دو شیف باز ممانعت کننده های مناسبی برای مس دراسید سولفوریک نیم مولار هستند و هر دو ماده از نوع ممانعت کننده های آندی می باشند و بصورت جذب شیمیایی برروی سطح مس مانع از خوردگی آن می شود و این دو شیف باز از جذب ایزوترم لانگمیر پیروی می کنند.

کلمات کلیدی:
شیف بازها، AC امپدانس، ممانعت کننده، ایزوترم لانگمیر

صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/137472/