ساخت نانوسیلیکان متخلخل با تخلخلهای مختلف وبکارگیری آن به عنوان سنسور گاز N2
عنوان مقاله: ساخت نانوسیلیکان متخلخل با تخلخلهای مختلف وبکارگیری آن به عنوان سنسور گاز N2
شناسه ملی مقاله: NCNN01_069
منتشر شده در اولین همایش نانومواد و نانوتکنولوژی در سال 1390
شناسه ملی مقاله: NCNN01_069
منتشر شده در اولین همایش نانومواد و نانوتکنولوژی در سال 1390
مشخصات نویسندگان مقاله:
معصومه مقدسی - دانشگاه تربیت معلم تهران گروه فیزیک
محمداسماعیل عظیم عراقی
خلاصه مقاله:
معصومه مقدسی - دانشگاه تربیت معلم تهران گروه فیزیک
محمداسماعیل عظیم عراقی
دراین کار نمونه هایی از ویفر سیلیکان نوع P به روش آنودی سازی الکتروشیمیایی درالکترولیت شامل DMF و اسید HF و همچنین اتانول C2H5OH) و اسید HF متخلخل گردید تاثیر پارامترهایی همچون زمان آندی سازی چگالی جریان و غلظت الکترولیت برساختار تخلخل بررسی شده و تصویر sEM سیلیکان متخلخل نانو و میکروساختار آورده شده است همچنین رفتار الکتریکی لایه های سیلیکان متخلخل نانو و میکروساختار درحضور گاز N2 بررسی شده و می توان از آن به عنوان حسگر گازی استفاده کرد
کلمات کلیدی: ویفر،SEM ، DMF
صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/143090/