مشخصه یابی اکسید روی آلاییده شده با مس به روش لایه نشانی اسپاترینگ همزمان
Publish place: 10th National Vacuum Conference of Iran
Publish Year: 1400
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 157
This Paper With 5 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
NCV10_006
تاریخ نمایه سازی: 5 خرداد 1401
Abstract:
دراین تحقیق لایه نازک اکسید روی با آلاییدگی مس با استفاده از روش کندوپاش مغناطیسی همزمان (Co-sputtering) تهیه شد. اثرات غلظت ۲۰% مس برساختار کریستالی، مورفولوژی سطح و خواص اپتیکی به ترتیب با استفاده از پراش پرتو ایکس(XRD)، میکروسکوپ الکترونی روبشی گسیل میدان(FESEM)،طیف سنجی پراش انرژی پرتو ایکس (EDX) و طیف سنجی فرابنفش-مرئی (UV-VIS) مورد بررسی قرار گرفت. نتایج آنالیز EDX آلاییدگی مس را در ساختاراکسید روی تائید کرد. الگوی XRD ساختاری آمورف را نشان میدهد و همچنین بررسی نتایج UV بعد از بازپخت لایه نازک اکسید روی آلاییده شده با مس نشانمی دهد که گاف انرژی (band gap) کاهش پیدا کرده است.
Authors
زهرا بیرامی
دانشکده فیزیک، دانشگاه علم و صنعت، رسالت، خیابان هنگام، خیابان دانشگاه، تهران
محمدرضا زمانی میمیان
دانشکده فیزیک، دانشگاه علم و صنعت، رسالت، خیابان هنگام، خیابان دانشگاه، تهران
سمانه محمودی
دانشکده فیزیک، دانشگاه علم و صنعت، رسالت، خیابان هنگام، خیابان دانشگاه، تهران