هومن نورائی - مجتمع برق و الکترونیک دانشگاه صنعتی مالک اشتر
محمدامین بصام

یک سامانه لیتوگرافی لیزری برای تولید ماسک با دقت 1 میکرون طراحی و ساخته شده است درساخت سکوی X-Y ازحسگر جابجایی تداخل سنج مایکلسون با دقت 158/2nm بعنوان فیدبک جابجایی استفاده شده است درسیستم خودکانون از روش مبتنی برروش آستیگماتیسم استفاده شده است حساسیت سیستم خودکانون ساخته شده حدود20 mV/μm می باشد سرعت لیتوگرافی سامانه حدود 1/47mm/min و حداکثر ابعاد لیتوگرافی 2×2cm2 است سکوی سامانه قادر است تاجابجایی های ناخواسته ناشی از ضربه و نوسانات محیطی را بخوبی جبران واصلاح نماید پهنای خط متوسط سامانه 1mm با غیریکنواختی کمتر از 14% است.

تداخل سنج مایکلسون، سکوی جابجاگر، سیستم خودکانون، لیتوگرافی لیزری