کنترل رشد نانوسیم های اکسید روی دردمای پایین به روش رسوب حمام شیمیایی

Publish Year: 1390
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 1,475

This Paper With 5 Page And PDF Format Ready To Download

  • Certificate
  • من نویسنده این مقاله هستم

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این Paper:

شناسه ملی سند علمی:

ICEE19_597

تاریخ نمایه سازی: 14 مرداد 1391

Abstract:

دراین مقاله رشد نانوسیم های اکسید روی ZnO) دردمای پایین به روش رسوب حمام شیمیایی CBD برروی زیرلایه های سیلیکون تحت شرایط مختلف مورد بحث و بررسی قرارگرفته است نتایج نشان داد که تحت شرایط مناسبی از نظر دمایی و غلظت محلول نانوسیم های اکسید روی ZnO) با ساختار شش ضلعی wurtzite کاملا چگال و عمودی باید یکنواخت برروی زیرلایه رشد کرده اند تاثیر غلظت محلول دما و زمان برروی مورفولوژی وابعاد نانوسیم ها بطور سیستماتیک مورد بررسی قرارگرفت مکانیزم رشد متاثر از پارامترهای قابل کنترل برمحلول طی فرایند شیمیایی رشد نانوسیم ها مورد بررسی قرارگرفته است تاثیر پارامتر زمان رشد برروی خواص لومینسانس نانوسیم های اکسید روی که درشرایط بهینه رشد داده شده اند مورد بررسی قرارگرفته اندمطالعه فتولومینسانس نمونه ها وجود نقایص ساختاری را نشان میدهد با این وجود نانوسیم های اکسید روی کهدردمای پایین و به روش بسیار آسان رشد یافته اند از کیفیت اپتیکی بسیار خوبی برخوردار هستند.

Authors

فاطمه دهقان نیری

آزمایشگاهی تحقیقاتی لایه هاینازک گروه مهندسی برق و کامپیوتر دانشگاه