CIVILICA We Respect the Science
(ناشر تخصصی کنفرانسهای کشور / شماره مجوز انتشارات از وزارت فرهنگ و ارشاد اسلامی: ۸۹۷۱)

بهبود ترانزیستور ماسفت سیلیسیم روی عایق در مقیاس نانو با جاسازی ناحیه بدون ناخالصی و استفاده از ماده نیترید سیلیسیم در ناحیه مدفون برای بهبود اثر خود گرمایی

عنوان مقاله: بهبود ترانزیستور ماسفت سیلیسیم روی عایق در مقیاس نانو با جاسازی ناحیه بدون ناخالصی و استفاده از ماده نیترید سیلیسیم در ناحیه مدفون برای بهبود اثر خود گرمایی
شناسه ملی مقاله: AISC01_033
منتشر شده در اولین کنفرانس هوش مصنوعی و پردازش هوشمند در سال 1401
مشخصات نویسندگان مقاله:

محمد هلالی - دانشجوی کارشناسی ارشد دانشگاه سمنان
علی اصفر اروجی - استاد دانشکده برق و کامپیوتر دانشگاه سمنان

خلاصه مقاله:
این مقاله، طرح نوینی برای ساختار ترانزیستورهای ماسفت در مقیاس نانو در فناوری سیلیسیم روی عایق به منظور راه کاری مناسب برای کاهش اثرات مخرب پدیده خودگرمایی ارائه می نماید. ایده اصلی در ارائه این ساختار جدید، استفاده از ماده نیترید سیلیسیم است که دارای هدایت گرمایی بیشتری نسبت به اکسید سیلیسیم می باشد و نیز به کمک شبیه سازی دو بعدی اتلس، عملکرد این ساختار مورد تجزیه و تحلیل قرار گرفته است.

کلمات کلیدی:
ترانزیستور اثر میدان، سیلیسیم روی عایق، پدیده خود گرمایی، دمای شبکه، تحرک حامل

صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/1549597/