CIVILICA We Respect the Science
(ناشر تخصصی کنفرانسهای کشور / شماره مجوز انتشارات از وزارت فرهنگ و ارشاد اسلامی: ۸۹۷۱)

بررسی اثر ولتاژ بر قطر حفره ها و ضخامت لایه آندی

عنوان مقاله: بررسی اثر ولتاژ بر قطر حفره ها و ضخامت لایه آندی
شناسه ملی مقاله: IMES02_097
منتشر شده در دومین همایش مشترک انجمن مهندسین متالورژی و انجمن ریخته گری ایران در سال 1387
مشخصات نویسندگان مقاله:

محمد احمدی دریاکناری - دانشگاه امیرکبیر
سیدهادی طبائیان - دانشگاه صنعتی امیرکبیر
حسین کاظمیان - آزمایشگاه تحقیقاتی جابر بن حیان
مجتبی محمدعلی نژاد - دانشکده مهندسی معدن و متالورژی،دانشگاه امیرکبیر

خلاصه مقاله:
غشاءهای آلومینا آندیک از آلومینیم در محلول اسید اگزالیک بوسیله فرایند آندایزینگ دو مرحله ای ساخته می شود. این غشاءها به خاطر پایداری گرمایی وشیمیای به مقادیر زیادی در صنعت استفاده می شود. در این مقاله مشخصاتی از قبیل قطر حفره و ضخامت لایه آندی که به وسیله ولتاژ اعمالی محلول تغییر می کند،. مور فولوزی این غشاءها به وسیله میکروسکوپ الکترونی روبشی بررسی شده است. نتایج نشان می دهد که غشاءها دارای اندازه حفره های ریز و یکنواخت با کانال های موازی هم هستند. اندازه حفره ها در رنج 50 نانومتر تا 100 نانو متر با ضخامتی بیش از 60 میکرومتر به دست می آید. با بررسی نتایج معلوم شد که اندازه حفره با ولتاژ رابطه مستقیم دارد. هچنین ضخامت لایه آندی هم با افزایش ولتاز افزایش می یابد

صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/155429/