تاثیر دمای آنیل بر خواص ساختاری و نوردی پوشش های نانو ساختار مزومتخلخل دی اکسید تیتانیم ایجاد شده به روش سل-ژل

Publish Year: 1389
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 823

This Paper With 10 Page And PDF Format Ready To Download

  • Certificate
  • من نویسنده این مقاله هستم

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این Paper:

شناسه ملی سند علمی:

IMES04_226

تاریخ نمایه سازی: 22 مرداد 1391

Abstract:

پوشش نانو ساختار مزومتخلخل دی اکسید تیتانیم بر روی لایه کوارتز به روش سل-ژل ایجاد شدند و تاثیر دمای آنیل بر خصوصیات ساختاری و نوردی آنها مورد ارزیابی قرار گرفت. نتایج پراش پرتو ایکس مضخص ساخت که جوانه زنی کریستال های فاز آناتاز د ردمای 300 درجه سانتیگراد شروع شده و با افزایش دما رشد یافته و در دمای 700 درجه سانتیگراد به فاز روتیل تبدیل می شوند. اندازه کریستالیت های اولیه فازهای آناتاز و روتیل به ترتیب برابر 3/2 و 15/3nm است. بررسی خصوصیات سطحی پوشش ها توسط جذب گاز نیتروژن نشان می دهد که افزایش دمای آنیل از 400 به 700 درجه سانتیگراد موجب کاهش مساحت سطح ویژه پوشش ها از 163/43 به 79/23m2/g شده در حالی که میانگین قطر حفرات از 5/05 به 9/20nm افزایش یافته است .مقایسه طیف های عبور حاصل از طیف سنجی پوشش ها در محدوده نور مرئی و فرابنفش مشخص می سازد که با افزایش دمای آنیل میزان عبور پوشش ها در محدود نور مرئی کاهش پیدا کرده و لبه جذب آنها به سمت طول موج های بزرگ تر جابجا شده به طوری که گاف انرژی آنها از 3/61eV در دمای 300 درجه سانتیگراد به 3/25eV در دمای 900 درجه سانتیگراد کاهش یافته است.

Authors

بنیامین یارمند

مهندسی مواد -پژوهشگاه مواد و انرژی

سید خطیب الاسلام صدر نژاد

استاد -مهندسی مواد - دانشگاه صنعتی شریف

مراجع و منابع این Paper:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :
  • N. Venkatachal am, M. Palanichamy, V. Murugesan, Mater. Chem. Phys. ...
  • S.Z. Chu, S. Inoue, K. Wada, D. Li, H. Haneda, ...
  • Y.H. Hsien, C.F. Chang, Y.H. Chen, S. Cheng, Appl. Catal. ...
  • D. Bhattacharyya, N.K. Sahoo, S. Thakur, N.C. Das, Thin Solid ...
  • K. Shalini, S. Chandra sekaran, S.A. Shivashanka, J. Cryst. Growth ...
  • E. Gyorgy, G. Socol, E. Axente, I.N. Mihailescu, C. Ducu, ...
  • J.C. Yu, J. Yu, L. Zhang, W. Ho, J. Photochem. ...
  • S. Kambe, K. Murakoshi, I. Kitamura, Y. Wada, S. Yanagida, ...
  • H. Yun, K. Miyazawa, I. Honma, H. Zhou, M. Kuwabara, ...
  • B.D., Cullity, Elements of X-ray diffraction, Addis on-Wesley Publishing Company ...
  • R., Spurr, H., Myers, Anal Chem (1957) 29:760. ...
  • N. Wark, J. Tschirch, _ Bartels, D. Bahnemann, J. Rathousky, ...
  • Sreemany, Monjoy, Sen, Suchitra, Materials Chemistry and Physics 83 (2004) ...
  • D. Bhattacharyya, S. Chaudhuri, A.K. Pal, Vacuum 43 (1992) 313. ...
  • نمایش کامل مراجع