اثر دما بر ساختار پوشش TiN ایجاد شده به روش رسوب شیمیایی بخار به کمک پلاسما (PACVD) بر روی فولاد ابزار

Publish Year: 1389
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 1,382

This Paper With 11 Page And PDF Format Ready To Download

  • Certificate
  • من نویسنده این مقاله هستم

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این Paper:

شناسه ملی سند علمی:

IMES04_337

تاریخ نمایه سازی: 22 مرداد 1391

Abstract:

روش PACVD بخاطر استفاده از محیط پلاسما دمای پوشش دهی کمتری نسبت به روش CVD معمولی دارد (550-450 درجه سانتیگراد). دمای پوشش دهی این روش معمولا کمتر از دمای تمپر اکثر فولادهای ابزار است، به همین دلیل روش مناسبی جهت ایجاد پوشش های نیتریدی از جمله TiN بر روی فولادهای ابزار می باشد. در یان تحقیق جهت ایجاد پوشش TiN بر روش فوق از مخلوط گازهای TiCl4, H2, N2 و Ar به عنوان پیش ماده استفاده شد و پوشش TiN در دماهای 450 و 480 و 520 درجه سانتیگراد بر روی فولاد ابزار تندبر DIN1.3355 رسوب گذاری شد. سپس آنالیز شیمیایی، ریز ساختار ، ساختار کریستالی و توپوگرافی پوشش ها بوسیله میکروسکوپ الکترونی روبشی، پراش اشعه ایکس و میکروسکوپ نیروی اتمی مورد بررسی قرار گرفتند. نتایح نشان دادند که TiN ایجاد شده دارای رشد جزیره ای ساختار گل کلمی بوده و با افزایش دمای لایه نشانی اندازه دانه های TiN و همچنین ضخامت لایه ایجاد شده افزایش می یابد.

Keywords:

Authors

حمید رضا شفیعی

گروه مهندسی مواد ،دانشگاه آزاد اسلامی واحد تهران جنوب

احمد علی آماده

دانشیار دانشکده مهندسی متالورژی و مواد، پردیس دانشکده های فنی، دانش

شاهرخ آهنگرانی

استادیار ، سازمان پژوهشهای علمی ایران

هادی مرادی

کارشناس ارشد مهندسی متالورژی و مواد، پژوهشکده علوم و فناوری مهام-گرو

مراجع و منابع این Paper:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :
  • F. Li, "Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition of Functional Coating ...
  • _ Wang, "Processing and Properties of Nitride-Based Thin Film Hetero ...
  • K.S. Mogensen, S.S. Eskildsen, C. Mathiasen and J. Bottiger, "Optical ...
  • T.A. Beer, J. Lamier and H Stori, _ Inhomo geneous ...
  • S. Ed Babayan, "Deposition of Materials with an Atmo spheric-Pres ...
  • M.Rossnagel and D. Wstwood, "Handbook of Plasma Processing Technology, Fundamentals, ...
  • E. Badisch, G.A. Fontalvo, M. Stoiber and C.Mitterer, "Tribological Behavior ...
  • Y. He, I. Apachitei, J. Zhou, T. Walstock and , ...
  • M. Stoiber and J. Wagner, 2 P lasma-Assisted Pre-Treatmet for ...
  • C. B. In, S. P. Kim and J. S. Chun, ...
  • S. Shimada, Y. Takada and J. Tsujino, "Deposition of TiN ...
  • E. Badisch, C. Mitterer, P.Mayrhofer, G. Mori, R. J. Bakker, ...
  • W. Kern and V. S. Ban, Thin Film Process, Academic ...
  • E. Badisch, M. Stoiber, G. A. Fontalvo and C. Mitterer, ...
  • Milton Ohring, "Material Science of Thin Films", second ed. ...
  • نمایش کامل مراجع