ناشر تخصصی کنفرانس های ایران

لطفا کمی صبر نمایید

Publisher of Iranian Journals and Conference Proceedings

Please waite ..
CIVILICAWe Respect the Science
Publisher of Iranian Journals and Conference Proceedings
Paper
Title

تاثیر PH بر روی لایه نشانی الکتروشیمیایی لایه های نازکنیکل روی (111) Si+n

Year: 1389
Publish place:
COI: IMES04_433
Language: PersianView: 393
This Paper With 10 Page And PDF Format Ready To Download

Buy and Download

با استفاده از پرداخت اینترنتی بسیار سریع و ساده می توانید اصل این Paper را که دارای 10 صفحه است به صورت فایل PDF در اختیار داشته باشید.
آدرس ایمیل خود را در کادر زیر وارد نمایید:

Authors

سید مهدی جان جان - عضو باشگاه پژوهشگران جوان واحد ابهر ، دانشجوی کارشناسی ارشد، دانشگاه آزاد اسلامی واحد ابهر
فرزاد نصیرپوری - استادیار، دانشکده مهندسی مواد، دانشگاه صنعتی سهند تبریز

Abstract:

رسوب دهی لایه های نازکدر طول یکقرن گذشته موضوع بسیاری از تحقیقات و مطالعات بوده است. کنترل دقیق روی نشست الکتروشیمیایی نیازمند داشتن اطلاعات کافی در مورد جوانه زنی و رشد لایه هایی است که می توانند بوسیله تکتینک های لایه نشانی مطالعه شوند. در این تحقیق، ما تأثیر PH را بر روی جوانه زنی و رشد نیکل از حمام های وات با PH مختلف بر روی (111) Si+n مورد مطالعه قرار داده ایم. نتایج ولتامتری سیکلی و جریان گذرا ثبت شده در طی لایه نشانی الکتروشیمیایی نیکل روی (111) Si+n برای ارزیای نشست الکتروشیمیایی نیکل استفاده شده است. نتایج نشان دادند که نیکل از پتانسیل اسمی 0.7V- شروع به رشد بر روی (111) Si+n می کند. با افزایش سرعت جاروب، منحنی های ولتامتری سیکلی باعث انتقال پیک های احیای نیکل به سمت مقادیر منفی تر می شوند. نتایج نشان دادند که با کاهش PH، جوانه زنی با سرعت بیشتری صورت گرفته، در نتیجه جوانه های ریز کمتر از 100nm بدست آمده است. ما منحنی های بدون بعد را برطبق تئوری شریفکر- هیلز رسم کرده ایم و یک مکانیزم جوانه زنی و رشد آنی برای نیکل بر روی (111) Si+n بر اساس شرایط این آزمایش برآورد کرده ایم.

Keywords:

نیکل، لایه نشانی الکتروشیمیایی، جوانه زنی و رشد، تئوری شریفکر-هیلز، (111) Si+n

Paper COI Code

برای لینک دهی به این Paper می توانید از لینک زیر استفاده نمایید. این لینک همیشه ثابت است و به عنوان سند ثبت Paper در مرجع سیویلیکا مورد استفاده قرار میگیرد:

https://civilica.com/doc/157017/

How To Citation:

در صورتی که می خواهید در اثر پژوهشی خود به این Paper ارجاع دهید، به سادگی می توانید از عبارت زیر در بخش منابع و مراجع استفاده نمایید:
جان جان، سید مهدی و نصیرپوری، فرزاد،1389،تاثیر PH بر روی لایه نشانی الکتروشیمیایی لایه های نازکنیکل روی (111) Si+n،چهارمین همایش مشترک انجمن مهندسین متالورژی و انجمن ریخته گری ایران،تهران،،،https://civilica.com/doc/157017

در داخل متن نیز هر جا که به عبارت و یا دستاوردی از این Paper اشاره شود پس از ذکر مطلب، در داخل پارانتز، مشخصات زیر نوشته می شود.
برای بار اول: (1389، جان جان، سید مهدی؛ فرزاد نصیرپوری)
برای بار دوم به بعد: (1389، جان جان؛ نصیرپوری)
برای آشنایی کامل با نحوه مرجع نویسی لطفا بخش راهنمای سیویلیکا (مرجع دهی) را ملاحظه نمایید.

مراجع و منابع این Paper:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مPaperقاله لینک شده اند :

  • Journal of 4ه [2] W. Shwarzacher, K. Attenborough, A. Michel, ...
  • M. Paunovic, M. Schelesinger; "Fundamentas of El ectrochemical Deposition", John ...
  • N.Lebbad, J.Voiron, B.Nguyen, E.Chainet, _ Solid Films", 275 (73) (1998) ...
  • W. Schwarzacher, "Interface", Spring 2006, 32-36. ...
  • J.C. Ziegler, R.I. Wielgosz, D.M. Kolb, _ deposition on n-Si(111) ...
  • W. Schwarzacher, _ roughening of el ectrodeposited films", J. Phys.: ...
  • B. Scharifker, G. Hills, "Theoretical and experimental studies of multiple ...
  • Research Info Management

    Certificate | Report | من نویسنده این مقاله هستم

    اطلاعات استنادی این Paper را به نرم افزارهای مدیریت اطلاعات علمی و استنادی ارسال نمایید و در تحقیقات خود از آن استفاده نمایید.

    علم سنجی و رتبه بندی Paper

    مشخصات مرکز تولید کننده این Paper به صورت زیر است:
    نوع مرکز: دانشگاه آزاد
    تعداد مقالات: 1,610
    در بخش علم سنجی پایگاه سیویلیکا می توانید رتبه بندی علمی مراکز دانشگاهی و پژوهشی کشور را بر اساس آمار مقالات نمایه شده مشاهده نمایید.

    New Papers

    Share this page

    More information about COI

    COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.

    کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.

    Support