آشنایی با لیتوگرافی و ارائه روشی کاربردی برای بهینه سازی آن

Publish Year: 1401
نوع سند: مقاله ژورنالی
زبان: Persian
View: 212

This Paper With 14 Page And PDF Format Ready To Download

  • Certificate
  • من نویسنده این مقاله هستم

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این Paper:

شناسه ملی سند علمی:

JR_PSI-22-1_001

تاریخ نمایه سازی: 17 دی 1401

Abstract:

از آنجایی که برای انجام درست هرکاری ابتدا باید دانش و شناخت کافی از آن موضوع پیدا کنیم، ما در بخش نخست این مقاله ابتدا به مرور بر روش های مهم و اصلی لیتوگرافی نوری و طبقه بندی آنها می پردازیم. سپس به معرفی راه های بهبود تصاویر ایجاد شده روی فتورزیست که بستر اصلی لیتوگرافی است پرداخته و لیتوگرافی با ذرات پر انرژی و لیتوگرافی نرم را بررسی می کنیم. در بخش دوم مقاله روش فتولیتوگرافی تماسی و فرایند بهبود آن که در آزمایشگاه ما انجام شده است، با جزئیات معرفی و شرح داده می شود. از این روش برای لیتوگرافی جهت ساخت قطعات اپتیکی پراشی روی یک بستر شیشه ایی آلاییده شده به نانوذرات نقره توسط یک باریکه یون هلیوم استفاده کردیم. جهت کاهش اثر پراش، ما روش تماسی را برای کار خود سازگاز و بهینه سازی کردیم. راهکار ما که در این مقاله ارائه شده است برای سایر پژوهشگران در ایران عملی و در دسترس است

Keywords:

لیتوگرافی , مواد حساس به نور , فوتورزیست

Authors

ارشمید نهال

آزمایشگاه پژوهشی مواد فوتونیکی، دانشکده فیزیک، پردیس علوم، دانشگاه تهران

سید رضا حسینی

آزمایشگاه پژوهشی مواد فوتونیکی، دانشکده فیزیک، پردیس علوم، دانشگاه تهران

مراجع و منابع این Paper:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :
  • M J Madou “Fundamentals of microfabrication and nanotechnology. Manufacturing techniques ...
  • K T Tran and T D Nguyen, Journal of Science: ...
  • J Vinje, K S Beckwith, and P Sikorski, Journal of ...
  • J E E Baglin, Applied Surface Science ۲۵۸, ۹ (۲۰۱۲) ...
  • S Y Chou, P R Krauss, and P J Renstrom, ...
  • M C Peckerar and J R Maldonado, Proceedings of the ...
  • C Luo, et al., RSC Advances ۱۰, ۱۴ (۲۰۲۰) ۸۳۸۵. ...
  • S Trivedi and H B Nemade, Sensors and Actuators B: ...
  • A Del campo and C Greiner ۱۷, ۶ (۲۰۰۷) R۸۱. ...
  • J M Shaw, et al., IBM journal of Research and ...
  • D J Carbaugh, et al., Journal of Vacuum Science and ...
  • S M Sze and M K Lee “Semiconductor devices: physics ...
  • D Qin, et al., Journal of Vacuum Science and Technology ...
  • V Iberi, et al., Scientific reports ۵, ۱ (۲۰۱۵) ۱. ...
  • M Saedi, et al., Applied Surface Science ۵۰۷ (۲۰۲۰) ۱۴۴۹۵۱. ...
  • C A Mack “Field guide to optical lithography”, Vol ۶ ...
  • T Weichelt, et al., Optics Express ۲۲, ۱۳ (۲۰۱۴) ۱۶۳۱۰. ...
  • A N Boto, et al., Physical Review Letters ۸۵,۱۳ (۲۰۰۰) ...
  • A B Kahng, et al., IEEE Transactions on Computer-Aided Design ...
  • P Yu, S X Shi, and D Z Pan, Journal ...
  • A Gu,and A Zakhor, IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing ۲۱, ...
  • A D Beyer, et al., IEEE Transactions on Applied Superconductivity ...
  • V Mico, Z Zalevsky, and J García, Optics communications ۲۷۶, ...
  • M D Levenson, N S Viswanathan, and R A Simpson, ...
  • K G Winkels, et al., The European Physical Journal Special ...
  • M Lysaght, et al., Physical Review A ۷۲, ۱ (۲۰۰۵) ...
  • J Suzuki, et al., Journal of Photopolymer Science and Technology ...
  • N Mojarad, J Gobrecht, and Y Ekinci, Scientific reports ۵, ...
  • H Ito and C G Willson, Polymer Engineering and Science ...
  • C T Lee, “Development and advanced characterization of novel chemically ...
  • E Reichmanis, et al., Polymer International ۴۸, ۱۰ (۱۹۹۹) ۱۰۵۳. ...
  • M Krysak, et al., In Advances in Resist Materials and ...
  • S Ghosh, et al., RSC advances ۶, ۷۸ (۲۰۱۶) ۷۴۴۶۲. ...
  • D De Simone, Y Vesters, and G Vandenberghe, Advanced Optical ...
  • H Ghasem, F Saeidi, and E Ahmadi, Journal of Instrumentation ...
  • A Heuberger, Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics ...
  • J M Park, et al., Materials ۱۲, ۱۳ (۲۰۱۹) ۲۰۵۶. ...
  • K Kise, et al., Journal of Vacuum Science and Technology ...
  • M Farhoud, et al., Journal of Vacuum Science and Technology ...
  • Y Shimizu, Nanomanufacturing and Metrology ۴ (۲۰۲۱) ۳. ...
  • D Weber, et al., Applied Physics A ۱۲۵, ۵ (۲۰۱۹) ...
  • R Sidharthan, F Chollet, and V M Murukeshan, Laser Physics ...
  • E Buitrago, et al., Microelectronic Engineering ۱۵۵ (۲۰۱۶) ۴۴. ...
  • E M Park, et al., Thin Solid Films ۵۱۹, ۱۳ ...
  • A E Grigorescu and C W Hagen, Nanotechnology ۲۰, ۲۹ ...
  • C Vieu, et al., Applied surface science ۱۶۴, ۱-۴ (۲۰۰۰) ...
  • S Reyntjens and R Puers, Journal of Micromechanics and Microengineering ...
  • J Zhang, C Con, and B Cui, ACS Nano ۸, ...
  • P R Munroe, Materials Characterization ۶۰, ۱ (۲۰۰۹) ۲. ...
  • C A Volkert, and A M Minor, MRS Bulletin ۳۲, ...
  • M I Current, Materials Science in Semiconductor Processing ۶۲ (۲۰۱۷) ...
  • M Horák, et al., Scientific Reports ۸, ۱ (۲۰۱۸) ۱. ...
  • O Dial, C C Cheng, and A Scherer, Journal of ...
  • F Watt, et al., International Journal of Nanoscience ۴, ۰۳ ...
  • S Chou, Y P R Krauss, and P J Renstrom, ...
  • U Plachetka, et al., Microelectronic Engineering ۷۳ (۲۰۰۴) ۱۶۷. ...
  • Y Xia and G M Whitesides, Annual Review of Materials ...
  • T A Kumar, et al., Nano letters ۱۰, ۶ (۲۰۱۰) ...
  • S T Howell, et al., Microsystems and Nanoengineering ۶, ۱ ...
  • Y K Ryu and R Garcia, Nanotechnology ۲۸(۱۴) (۲۰۱۷) ۱۴۲۰۰۳ ...
  • Y Wang, et al., Nano Today ۲۲ (۲۰۱۸) ۳۶. ...
  • C Wang, et al., Micromachines ۷, ۷ (۲۰۱۶) ۱۱۸. ...
  • X Niu, et al., Microelectronic engineering ۸۷, ۵-۸ (۲۰۱۰) ۱۱۶۸. ...
  • Y K Yoon, J H Park, and M G Allen, ...
  • C M Waits, et al., Sensors and Actuators A: Physical ...
  • I Bernardeschi, M Ilyas, and L Beccai, Advanced Intelligent Systems ...
  • G Seniutinas, et al., Microelectronic Engineering ۱۹۱ (۲۰۱۸) ۲۵ ...
  • R R Schaller, IEEE Spectrum ۳۴, ۶ (۱۹۹۷) ۵۲. ...
  • T S Kulmala, et al., Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and ...
  • T Tamulevičius, et al., Experimental Techniques ۳۲, ۴ (۲۰۰۸) ۲۳. ...
  • C J Ting, C F Chen, and C P Chou, ...
  • Y Chen, Microelectronic Engineering ۱۳۵ (۲۰۱۵) ۵۷. ...
  • A N Abbas, et al., ACS nano ۸, ۲ (۲۰۱۴) ...
  • A Rashidian, et al., Journal of Micromechanics and Microengineering ۲۰, ...
  • A Nahal, M Mahjour-Shafiei, and S R Hosseini, Journal of ...
  • A Nahal, S R Hosseini, and M Mahjour-Shafiei, Journal of ...
  • D M Mattox, “Film Formation, Adhesion, Surface Preparation, and Contamination ...
  • V I Egorkin, et al., Russian Microelectronics ۴۶, ۴ (۲۰۱۷) ...
  • P Walker and W H Tarn, (Eds.), “CRC Handbook of ...
  • نمایش کامل مراجع