دیف سعاد - گروه علوم مواد، دانشکده علوم، دانشگاه بیسکرا، الجزایر
سید بنراماچ - گروه علوم مواد، دانشکده علوم، دانشگاه بیسکرا، الجزایر
عبدالفتاح عماری - گروه فیزیک، دانشکده علوم ماده، دانشگاه تیارت، الجزایر آزمایشگاه میکرو و نانوفیزیک (LaMiN)، دانشکده ملی پلی تکنیک اوران (ENPO)، اوران، الجزایر
عبداللهاب گاهتر - گروه زیست شناسی، دانشکده علوم، دانشگاه حمه لخضر، الوادی، الجزایر

مقاله حاضر تاثیر دمای بستر را بر ویژگی های فیزیکی لایه های نازک اکسید روی (ZnO) رسوب شده با استفاده از روش افشانه پیرولیز گزارش می کند. این لایه ها ماهیتی بس بلوری با جهت گیری ترجیحی در امتداد [۰۰۲] نشان می دهند. علاوه بر این، اندازه متوسط بلورک ها با افزایش دمای بستر افزایش می یابد. نتایج میکروسکوپ الکترونی روبشی نشان داد که لایه ها به طور یکنواخت و همگن توزیع شده اند. میانگین عبور اپتیکی، بسته به دمای بستر، بین ۶۲ تا ۹۰ درصد متغیر است. از طرف دیگر، با افزایش دمای بستر، ضریب جذب کاهش می یابد و گاف نواری اپتیکی در محدوده ۳٫۲۵ – ۳٫۲۸ الکترون ولت تغییر می کند. رسانش الکتریکی لایه ها نیز بین (mS.cm-۱) ۱۸ تا ۵۸ متغیر است.

لایه های نازک ZnO, دمای بستر, اسپری پیرولیز, ریخت شناسی, گاف نواری اپتیکی, رسانش الکتریکی