مدل سازی ریاضی اثر پارامترهای لایه نشانی الکتروشیمیایی با جریان پالسی بروی اندازه دانه پوشش حاصله

Publish Year: 1391
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 546

This Paper With 18 Page And PDF Format Ready To Download

  • Certificate
  • من نویسنده این مقاله هستم

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این Paper:

شناسه ملی سند علمی:

IMES06_241

تاریخ نمایه سازی: 8 بهمن 1391

Abstract:

در این پژوهش یک مدل ریاضی برای ارزیابی اثر تغییرات پارامتر های لایه نشانی الکتروشیمیایی با جریان پالسی بر روی اندازه دانه پوششهای نیکل ارائه شده است. در این مدل رابطه تغییرات غلظت یون های فلزی بر روی سطح کاتد را بدست آورده، سپس رابطهتغییرات نرخ جوانه زنی به صورت تابعی بر حسب پارامترهای لایه نشانی الکتروشیمیایی با جریان پالسی بیان شده است. رسم تابع نرخ جوانه زنی بر حسب پارامترهای لایه نشانی الکتروشیمیایی با جریان پالسی ، نشان داده است که با افزایش هر یک از پارامترهای لایه نشانی الکتروشیمیایی با جریان پالسی تا یک مقدار مشخصی کاهش اندازه دانه و سپس افزایش اندازه دانه را داریم. نتایج بدست آمده از مدل با نتایج تجربی بدست آمده از پوشش های نیکل مقایسه شد. خواص سختی سنجی پوششها با دستگاه میکرو سختی سنجی بررسی شده است

Keywords:

لایه نشانی الکتروشیمیایی با جریان پالسی , اندازه دانه , مدل سازی ریاضی

Authors

هادی مهدیزاده

کارشناسی ارشد نانو مواد دانشگاه صنعتی سهند

فرزاد نصیرپوری

استادیار دانشکده مواد-دانشگاه صنعتی سهند

علیرضا اکبری

استادیار دانشکده مواد-دانشگاه صنعتی سهند

مراجع و منابع این Paper:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :
  • K. S. Daragolichet. al., ASM Metals Handbook, Vol. 5, 9th ...
  • Harald Natter, Rolf Hempelmann, "Tailor-made nanomaterias designed by electro chemical ...
  • A. M. El-sherik. U. Erb, Synthesis, Structure and Properties of ...
  • M. S _ Chanderasekar, M alathyPushp avanam, Pulse and pulse ...
  • N. Ibl, Some theoretical aspects of pulse electrolysis, Surface Technology, ...
  • J. Cl. Puippe, N.Ibl, Influence of charge and discharge of ...
  • R. T. C. Choo, J. M. Togari, A. M. Elsherik, ...
  • e lectro crystallization analyse _ f nanocrystalline nickel production by ...
  • Puippe, J.CI, The morphology of pulse-plated deposits, plating and surface ...
  • Yuan Xuetao, Wang Yu, Sun Dongbai, Yu Hongying, Influence of ...
  • Rehrige, Leidheiser, Notis, The influence of the current Waveform on ...
  • Hosokawa, _ Angere, H., puippe, J.Cl., and Ibl, N., Pulse-plated ...
  • Yoshimura, S., chida, S., Sato, E, , and Kuboata, N., ...
  • Sutter, B., Pulsed e lectrodepo sition of nickel and chromium, ...
  • Abdulin, v. S., and Chermenko, v.I. _ Current yield and ...
  • Devaraj, S.G., and Seshadri, S. K, Pulsed elec trodeposition of ...
  • Pattsch, W., Pulsed electroposition ofzinc and cadmium, in theory and ...
  • K. P. Wong, K. C. Chan, T. M. Yue, A ...
  • K. P. Wong, K. C. Chan, T. M. Yue, A ...
  • K. P. Wong, K. C. Chan, T. M. Yue, Influence ...
  • A. Milchev, Fundamentas ofnucleation and growh, Kluwer academic publishers, 2002. ...
  • C. Kollia, N. Spyrellis, Texural modification in nickel eletrodepos ition ...
  • نمایش کامل مراجع