ساخت و بررسی نمونه های حجمی و لایه نازک فریت استرانسیوم
عنوان مقاله: ساخت و بررسی نمونه های حجمی و لایه نازک فریت استرانسیوم
شناسه ملی مقاله: JR_PSI-8-3_001
منتشر شده در در سال 1387
شناسه ملی مقاله: JR_PSI-8-3_001
منتشر شده در در سال 1387
مشخصات نویسندگان مقاله:
احمد پوربافرانی
پرویز کاملی
هادی سلامتی
خلاصه مقاله:
احمد پوربافرانی
پرویز کاملی
هادی سلامتی
در این مقاله نمونههای حجمی و لایههای نازک فریت استرانسیوم مورد مطالعه قرار گرفته اند. بزرگ بودن مقاومت ویژه در فریت استرانسیوم، تلفات ناشی از جریانهای گردابی را کاهش داده و به همین جهت، می توان از آن در مدارهای مغناطیسی مخصوص فرکانسهای بزرگ، استفاده کرد. از طرف دیگر خاصیت مغناطیسی دائم فریت استرانسیوم نیز بسیار مورد توجه است. در ابتدا به فرآیند تهیه نمونههای حجمی فریت استرانسیوم به روش حالت جامد میپردازیم. برای به دست آوردن خواص مغناطیسی بهتر، در ساخت نمونهها از عامل استوکیومتری (n) یعنی نسبت / SrO ۳ O ۲ Fe به مقدار ۲۵/۵ استفاده شد. برای کنترل رشد دانهها در ساختار نمونهها از افزودنیهای CaO و ۲ SiO استفاده کردیم. نمونهها به دو صورت همسانگرد و ناهمسانگرد تهیه شدند. برای تهیه نمونههای ناهمسانگرد از میدان مغناطیسی حدود T ۱ برای جهت دهی دانهها در حین پرس نمونهها، استفاده شده است. سپس به منظور بررسی و مقایسه خواص ساختاری و مغناطیسی نمونههای همسانگرد و ناهمسانگرد از پراش پرتو x ، میکروسکوپ الکترونی روبشی (SEM) و تحلیل EDAX و مغناطیس سنج استفاده شد. نتایج نشان می دهند که در اثر اعمال میدان، خواص ساختاری و مغناطیسی نمونههای ناهمسانگرد به طور قابل ملاحظه، بهبود مییابد که دلیل آن چرخش ذرات در اثر اعمال میدان، هنگام پرس کردن نمونه است. در مرحله بعد با استفاده از نمونههای حجمی، لایههای نازک فریت استرانسیوم را به روش تپش لیزری (PLD) تهیه کردیم. در تهیه لایه نازک از زیرلایه (۱۱۱) Si استفاده شد. سپس بررسی ساختار لایهها را توسط پراش پرتو x ، میکروسکوپ الکترونی روبشی (SEM) و تحلیل EDAX انجام دادیم. این بررسیها روی نمونههای مختلف نشان دادکه برای تشکیل فاز بلوری فریت استرانسیوم باید دمای زیرلایه بالاتر از ˚ C ۸۰۰ انتخاب شود. شرایط بهینه برای ساخت لایههای نازک فریت استرانسیوم، در دمای زیر لایه ˚C ۸۴۰ و فشار اکسیژن mtorr ۷۵ به دست آمد.
کلمات کلیدی: فریت استرانسیوم, استوکیومتری, خواص ساختاری و مغناطیسی, لایه نشانی به روش تپش لیزری
صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/1802171/