ایجاد میکروساختارهای مختلف روی فیلم پلی اترسولفون در اثر تابش لیزر XeCl
عنوان مقاله: ایجاد میکروساختارهای مختلف روی فیلم پلی اترسولفون در اثر تابش لیزر XeCl
شناسه ملی مقاله: JR_PSI-14-3_004
منتشر شده در در سال 1393
شناسه ملی مقاله: JR_PSI-14-3_004
منتشر شده در در سال 1393
مشخصات نویسندگان مقاله:
هدیه پازوکیان - پژوهشکده لیزر و اپتیک، تهران
محمود ملاباشی - دانشکده فیزیک، دانشگاه علم و صنعت، تهران
سعید جلوانی - پژوهشکده لیزر و اپتیک، تهران
جلال برزین - پژوهشگاه پلیمر و پتروشیمی، تهران
شهریار ابوالحسینی - پژوهشکده لیزر و اپتیک، تهران
خلاصه مقاله:
هدیه پازوکیان - پژوهشکده لیزر و اپتیک، تهران
محمود ملاباشی - دانشکده فیزیک، دانشگاه علم و صنعت، تهران
سعید جلوانی - پژوهشکده لیزر و اپتیک، تهران
جلال برزین - پژوهشگاه پلیمر و پتروشیمی، تهران
شهریار ابوالحسینی - پژوهشکده لیزر و اپتیک، تهران
پارامترهای تابش لیزر به ویژه شاریدگی و تعداد پالس در ایجاد میکروساختارهای مختلف روی سطوح پلیمری در اثر تابش و در نتیجه بهبود خواص سطح در استفاده از آن در پزشکی، الکترونیک و دیگر صنایع اهمیت قابل ملاحظه ای دارد. اطلاع از محدوده های مختلف شارش و تعداد پالس در ایجاد ساختارهای مختلف از موارد مهم در تعیین اثرات مطلوب و یا ناخواسته تابش روی سطح به منظور استفاده از آن در کاربردهای مختلف است. در این مقاله فیلم پلی اترسولفون با لیزر XeCl در شارش های مختلف و بالای آستانه کندگی مورد تابش و ساختارهای مختلف ایجاد شده در اثر برهم کنش در شارش و تعداد پالس متفاوت مورد بررسی قرار گرفت
کلمات کلیدی: پلی اترسولفون, لیزر XeCl, میکروساختار, مخروط, شیارهای پریودیک
صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/1802325/