تاثیر خلوص SnCl2.2H2O در لایه های نازک 2SnO تهیه شده به روش افشانه پایرولیزز

Publish Year: 1387
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 640

متن کامل این Paper منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل Paper (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.

  • Certificate
  • من نویسنده این مقاله هستم

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این Paper:

شناسه ملی سند علمی:

SCMI16_233

تاریخ نمایه سازی: 8 بهمن 1391

Abstract:

در این مطالعه، ما ویژگی های ساختاری فیلم های نازک 2SnO را با تاکید بر انتخاب نوع ماده مورد بررسی قرار دادیم.شرایط تهیه فیلم ها بجز ناخالصی ماده برای تمام نمونه ها یکسان بود. نتایج XRD نشان می دهد که فیلم ها با درصد خلوص متفاوت دارای جهت های متفاوتی هستند. که جهت های غالب آنها عبارتند از: ( 101 ، 211 و 200 ) تغییر در دمای زیرلایه برای یک خلوص خاص نیز بررسی می شود که کمترین مقاومت و بیشترین شفافیت در دمای C 450 به ترتیب 77 اهم بر سانتی متر مربع 74 % است.

Authors

الهام شادمانی

دانشکده علوم پایه، دانشگاه گیلان

سید محمد روضاتی

دانشکده علوم پایه، دانشگاه گیلان