در این کار تجربی لایه های نازک اکسید ایندیم آلاییده با اکسید قلع  (ITO) با ترکیب های مختلفی از ۶۰ تا wt%۹۵ اکسید ایندیم و ۴۰ تا wt%۵ اکسید قلع با استفاده از روش تبخیر با باریکه الکترونی بر روی زیرلایه های شیشه ای نهشته شدند. لایه ها پس از نهشت، به مدت ۳ ساعت در هوا در دمای C۴۵۰ تحت عملیات حرارتی قرار گرفتند. تاثیر غلظت آلاینده اکسید قلع با تغییر غلظت آن از ۵ تا wt%۴۰ بر روی خواص ساختاری و اپتیکی این لایه ها بررسی و مشاهده شد که با افزایش غلظت آلاینده تا wt%۲۰، گاف باندی و اندازه دانه ها افزایش می یابد. بیشترین گاف انرژی و بیشترین اندازه دانه به ترتیب برابر eV۷۱/۳ و nm۲۳ در لایه های با wt%۲۰ اکسید قلع برآورد گردید.

اکسید ایندیم آلاییده با قلع, عملیات حرارتی, گاف انرژی, اندازه دانه