CIVILICA We Respect the Science
(ناشر تخصصی کنفرانسهای کشور / شماره مجوز انتشارات از وزارت فرهنگ و ارشاد اسلامی: ۸۹۷۱)

رسوب لایه اتمی Atomic Layer Deposition

عنوان مقاله: رسوب لایه اتمی Atomic Layer Deposition
شناسه ملی مقاله: CELCONF02_021
منتشر شده در دومین همایش بین المللی مهندسی کامپیوتر، برق و تکنولوژی در سال 1402
مشخصات نویسندگان مقاله:

سیدمحمد علوی - دانشیار دانشگاه جامع امام حسین علیه السلام
جلایر فرزام - دانشجوی کارشناسی ارشد دانشگاه جامع امام حسین علیه السلام

خلاصه مقاله:
رسوب گذاری لایه نازک به روش های مختلف انجام می گیرد که هر کدام از آنها کاربردهای مختلفی در صنعت دارد. در این مقاله به بررسی روشهای رسوب لایه اتمی ( ( ALD پرداخته شده است. همچنین ابزارهای مدلسازی و کاربردهای آنها را شرح میدهد. در ادامه ی این مطالعه، به بررس انواع و همچنین ویژگی ها، مزایا و کاربردهای روش رسوب لایه اتمی می پردازد.

کلمات کلیدی:
رسوب اتمی (ALD)، PEALD، TERMAL - ALD

صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/1939614/