رسوب لایه اتمی Atomic Layer Deposition
عنوان مقاله: رسوب لایه اتمی Atomic Layer Deposition
شناسه ملی مقاله: CELCONF02_021
منتشر شده در دومین همایش بین المللی مهندسی کامپیوتر، برق و تکنولوژی در سال 1402
شناسه ملی مقاله: CELCONF02_021
منتشر شده در دومین همایش بین المللی مهندسی کامپیوتر، برق و تکنولوژی در سال 1402
مشخصات نویسندگان مقاله:
سیدمحمد علوی - دانشیار دانشگاه جامع امام حسین علیه السلام
جلایر فرزام - دانشجوی کارشناسی ارشد دانشگاه جامع امام حسین علیه السلام
خلاصه مقاله:
سیدمحمد علوی - دانشیار دانشگاه جامع امام حسین علیه السلام
جلایر فرزام - دانشجوی کارشناسی ارشد دانشگاه جامع امام حسین علیه السلام
رسوب گذاری لایه نازک به روش های مختلف انجام می گیرد که هر کدام از آنها کاربردهای مختلفی در صنعت دارد. در این مقاله به بررسی روشهای رسوب لایه اتمی ( ( ALD پرداخته شده است. همچنین ابزارهای مدلسازی و کاربردهای آنها را شرح میدهد. در ادامه ی این مطالعه، به بررس انواع و همچنین ویژگی ها، مزایا و کاربردهای روش رسوب لایه اتمی می پردازد.
کلمات کلیدی: رسوب اتمی (ALD)، PEALD، TERMAL - ALD
صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/1939614/