سید محمود محاطی - پژوهشکده تحقیقات کشاورزی، پزشکی و صنعتی، پژوهشگاه علوم و فنون هسته ای
محمدرضا قاسمی - پژوهشکده تحقیقات کشاورزی، پزشکی و صنعتی، پژوهشگاه علوم و فنون هسته ای
ضرغام اسدالهی - پژوهشکده تحقیقات کشاورزی، پزشکی و صنعتی، پژوهشگاه علوم و فنون هسته ای
پروین بلاش آبادی - پژوهشکده تحقیقات کشاورزی، پزشکی و صنعتی، پژوهشگاه علوم و فنون هسته ای

یک منبع تغذیه جریان مستقیم پالسی دو قطبی برای استفاده در سیستم کندوپاش مغناطیسی جهت پوشش دهی لایه های نازک نارسانا (Al2O3, NaxCo2O4, ITO, ZnO) ساخته شده است. منبع تغذیه از سه قسمت اصلی تشکیل شده است، (1) منابع تغذیه مستقم ولتاژ بالا با مدار های کنترل فاز و چند برابر کننده های ولتاژ، (2) مدار تولید کننده پالس قابل برنامه ریزی برای کنترل سوئیچ های قدرت، (3) مدارهای کنترل، حفاظت و اندازه گیری. پهنای پالس و دامنه ولتاژ منفی و مثبت بطور جداگانه قابل تعیین است. ولتاژ پیک تا پیک 1000V به صورت متقارن و یا نامتقارن با ماکزیمم جریان 2A بصورت منبع ولتاژ ثابت و یا منبع جریان ثابت با پهنای پالس حدود 10~100~Sµ با محدوده فرکانسی 8~22kHz تحت با اهمی بدست آمده است.

کندوپاش مغناطیسی، منبع تغذیه مستقیم پالسی دو قطبی، پوشش دهی لایه های نازک نارسانا