بررسی بازدارندگی یک شبف باز جدید بر روی مس و بهبود راندمان آن با بنزوتری آزول در اسید سولفوریک نیم مولار

در این تحقیق میزان بازدارندگان یک شیف باز جدید بر روی مس و بهبود راندمان آن با بنزوتری آزول در اسید سولفوریک نیم مولار با استفاده از روشهای الکتروشیمیایی (پتانسیودینامیک و AC امپدانس) بدست آورده شد. نتایج نشان دادند که اضافه شدن شیف باز به اسید سولفوریک نیم مولار باعث کاهش جریان خوردی مس شده است و افزایش غلظت شیف باز، باعث افزایش درصد بازدارندگی آن شده است. با اضافه کردن 10ppm بنزوتری آزول به شیفت باز باعث افزایش بیشتر درصد بازدارندگی، نسبت به شیف باز تنها، شده است. نتایج منحنیهای نایکوئیست (AC امپدانس) نشان میدهد که اضافه شدن شیف باز باعث افزایش مقاومت انتقال بار و کاهش ظرفیت لایه دو گانه ( Cdl ) شده است و همچنین اضافه کردن 10 ppm بنزوتری آزول، باعث افزایش راندمان بازدارندگی شیف باز شده است. این مخلوط ممانعت کننده مناسبی برای مس در اسید سولفوریک نیم مولار می باشد. همچنین جذب این شیف باز به تنهایی و با اضافه کردن بنزوتری آزول به آن بر روی سطح مس از جذب ایزوترم لانگمیر پیروی می کنند.

Keywords:

بازدارنده , شیف باز , بنزوتری آزول , مس , روشهای الکتروشیمیایی