CIVILICA We Respect the Science
(ناشر تخصصی کنفرانسهای کشور / شماره مجوز انتشارات از وزارت فرهنگ و ارشاد اسلامی: ۸۹۷۱)

بررسی طیف جذبی پرتو ایکس نانو لایه های Co/Ru بر زیر لایه Si

عنوان مقاله: بررسی طیف جذبی پرتو ایکس نانو لایه های Co/Ru بر زیر لایه Si
شناسه ملی مقاله: IMES05_129
منتشر شده در پنجمین همایش مشترک انجمن مهندسی متالورژی ایران و انجمن ریخته گری ایران در سال 1390
مشخصات نویسندگان مقاله:

آمنه فرنود - دانشجوی کارشناسی ارشد فیزیک ماده چگال، دانشگاه اصفهان، گروه فیزیک
زهرا نوربخش - استادیار فیزیک ماده چگال، دانشگاه اصفهان، گروه فیزیک
امیر سید حسن روضاتیان - استادیار فیزیک ماده چگال، دانشگاه اصفهان، گروه فیزیک

خلاصه مقاله:
در این مقاله با تاباندن اشعه ایکس به نانو لایه Co/Ru بر روی لایه سیلسیم توسط کد محاسباتی وین، طیف جذبی نانو لایه را مورد بررسی قرار می دهیم . پرتو ایکس به دلیل انرژی زیاد آن، قابلیت دارد که با الکترون های مغزه عنصر مشخصی بتابد و باعث برانگیختگی آن شود. از آنجایی که طیف جذبی پرتو ایکس به طور مستقیم میزان برانگیختکی یک الکترون مغزه به حالت های اشغال نشده را اندازه گیری میکند، می توان با مقایسه طیف با چگالی حالت های الکترونی، ساختار الکترونی حالت های اضغال نشده آن اتم مشخص را به دست آوریم.

کلمات کلیدی:
طیف جذبی اشعه ایکس، نانو لایه کبالت- روتینیوم

صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/200815/