اثر دمای عملیات حرارتی آنیل بر ساختار و خواص مغناطسی لایه نازک ابر شبکه آهن-پلاتین
Publish place: 5th Joint Conference of Iranian Society of Metallurgical Engineers and the scientific community of Casting
Publish Year: 1390
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 910
This Paper With 11 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
IMES05_332
تاریخ نمایه سازی: 23 خرداد 1392
Abstract:
لایه های نازک ابرشبکه آهن- پلاتین از جمله مواد مورد استفاده در حافظه های مغناطیسی بسیار قوی می باشند. در پژوهش حاضر تاثیر دمای عملیات حرارتی آنیل بر ساختار مغناطیسی این لایه ها مورد ارزیابی قرار گرفته است. لایه نازک ابر شبکه FePt L10 در محیط آرگون در دماهای 750 الی 900 درجه سانتیگراد و با تناوب دمایی 50 درجه سانتیگراد توسط امواج مادون قرمز تحت عملیات حرارتی قرار گرفت. با توجه به نتایج بدست آمده با افزایش دما، مغناطش اشباع زیاد می شود ولی اندازه دانه و به تبع نیروی پسماند زدا تغییر چندانی نکرد. زبری سطح لایه نازک توسط میکروسکوپ نیروی اتمی بررسی شد. نتایج نشان داد که با افزایش دنا زبری سطح لایه ها زیاد می شود و مطالعات پراش سنجی پرتئ ایکس صفحه ای مشخص کرد که هیچ نوع فاز ثانویه در اثر عملیات حرارتی در دمای 900 درجه سانتیگراد ایجاد نمی شود. با توجه به خواص ساختاری و مغناطیسی دمای 900 درجه سانتگراد به عنوان مناسب ترین دمای عملیات حرارتی آنیل پیشنهاد می شود.
Keywords:
Authors
محمد موسوی نیا
دانشجوی کارشناس ارشد مهندسی مواد، گرایش شناسایی انتخاب و روش ساخت موا
علی قاسمی
استادیار- الکتروسرامیک، دانشکده مهندسی مواد، دانشگاه صنعتی مالک اشت
غلام رضا گردانی
مربی، نانو مواد، دانشکده مهندسی مواد، دانشگاه صنعتی مالک اشتر اصفها
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :