نقش لایه پشتیبان در رشد نانولوله کربنی تراز عمودی در روش CVD

Publish Year: 1403
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 110

This Paper With 13 Page And PDF Format Ready To Download

  • Certificate
  • من نویسنده این مقاله هستم

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این Paper:

شناسه ملی سند علمی:

MRSS07_046

تاریخ نمایه سازی: 15 مرداد 1403

Abstract:

این مقاله نقش لایه پشتیبان در سنتز نانو لوله های کربنی CNT، به خصوص نانو لوله های کربنی همتراز عمودی VACNTs توسط روش رسوب بخار شیمیایی CD بررسی می کند. در این مقاله، تاثیر عوامل مختلفی شامل تکنیک لایه نشانی و ضخامت لایه پشتیبان، و افزودن گازهای خاص در طول فرآیند لایه نشانی بر هسته زایی و رشد نانولوله هایکربنی بررسی می شود. بررسی دقیق این عوامل نقش اساسی در تعیین ویژگی ها و رشد نانولوله های کربنی دارد. همچنین،استفاده ازلایه های پشتیبان مختلف، نظیر آلومینیوم و تیتانیوم، تاثیری مهمی در ساختار نانولوله های کربنی دارد. با بررسی تقریبا ۵۰۰ مقاله به این نتیجه رسیدیم که آلومینا و سیلیکا بیشترین استفاده را در فرآیند CVD داشته است. در نظر گرفتن این نکات به بهینه سازی فرآیند رشد نانولوله های کربنی می تواند کمک کند

Keywords:

نانولوله های کربنی همتراز عمودی , رسوب بخار شیمیایی , لایه پشتیبان

Authors

الهه خسروی فرد

دانشگاه فردوسی مشهد دانشکده مهندسی شیمی

محمد تقی حامد موسویان

دانشگاه فردوسی مشهد دانشکده مهندسی شیمی

مرتضی مغربی

دانشگاه فردوسی مشهد دانشکده مهندسی شیمی