ساخت ترانزیستورهای لایه نازک اکسید روی و بررسی اثر سطح تماس مشترک اتصالات سورس درین و کانال بر عملکرد آن
عنوان مقاله: ساخت ترانزیستورهای لایه نازک اکسید روی و بررسی اثر سطح تماس مشترک اتصالات سورس درین و کانال بر عملکرد آن
شناسه ملی مقاله: CECIT01_374
منتشر شده در کنگره ملی مهندسی برق، کامپیوتر و فناوری اطلاعات در سال 1392
شناسه ملی مقاله: CECIT01_374
منتشر شده در کنگره ملی مهندسی برق، کامپیوتر و فناوری اطلاعات در سال 1392
مشخصات نویسندگان مقاله:
عباس شیری - آزمایشگاه لایه نازک دانشگاه تهران
فاطمه دهقان نیری - آزمایشگاه لایه نازک دانشگاه تهران
ابراهیم اصل سلیمانی - آزمایشگاه لایه نازک دانشگاه تهران
خلاصه مقاله:
عباس شیری - آزمایشگاه لایه نازک دانشگاه تهران
فاطمه دهقان نیری - آزمایشگاه لایه نازک دانشگاه تهران
ابراهیم اصل سلیمانی - آزمایشگاه لایه نازک دانشگاه تهران
در این مقاله ساخت ترانزیستور های لایه نازک بر پایه اکسید روی را مورد بررسی قرار دادیم و همچنین مشخصه های مهم این افزاره را معرفی و استخراج کردیم. هندسه و ابعاد ترانزیستور بر عملکرد ترانزیستورر تاثیر زیادی دارد. از جمله پارامتر هایی که می تواند بر روی عملکرد ترانزیستورهای لایه نازک موثر باشد سطح تماس مشترک بین اتصالات سورس درین و کانال اکسید روی می - باشد. آزمایش های انجام شده نشان می دهد که با افزایش سطح تماس مقدار جریان روشن ترانزیستور افزایش می یابد
کلمات کلیدی: اکسید روی، ترانزیستورهای لایه نازک، جریان روشن، سطح تماس مشترک، موبیلیتی اشباع
صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/210895/