بررسی اثر ولتاژ اعمالی و مدت زمان پوشش دهی بر خواص لایه های نانومتخلخل کامپوزیتی اکسید تیتانیم/ هیدروکسی آپاتیت ایجاد شده به روشMAO

Publish Year: 1390
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 827

This Paper With 9 Page And PDF Format Ready To Download

  • Certificate
  • من نویسنده این مقاله هستم

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این Paper:

شناسه ملی سند علمی:

ICC08_158

تاریخ نمایه سازی: 14 مهر 1392

Abstract:

روش Micro Arc Oxidation (MAO)جهت رشد لایههای کامپوزیتی متخلخل نانوساختار اکسید تیتانیم /هیدروکسیآپاتیت به کار گرفته شد. لایهها روی زیرلایههای تیتانیمی در الکترولیت حاوی نمکهای استات کلسیم وبتا گلیسرو فسفات تحت ولتاژهای اعمالی متفاوت برای زمان های مختلف رشد داده شدند . بررسیAFM و SEMساختاری متخلخل و سطحی زبر را نشان داد . وابسته به ولتاژ و زمان، سایز حفرات در محدوده 650-70 نانومتر وزبری سطح در محدوده12/6-9/8نانومتر بود . ترکیب شیمیایی و ساختار فازی لایه ها با استفاده از روش های XRD و XPS ،EDX مورد بررسی قرار گرفت . لایهها شامل درصدهای متغیری از فازهای هیدروکسی آپاتیتآناتاس، آلفا تری فسفات کلسیم و تیتانات کلسیم بود. همچنین سایز کریستالی هیدروکسیآپاتیت حدود 42/4نانومتربدست آمد . نمونه تهیه شده تحت ولتاژ 350 ولت برای 3 دقیقه، بیشترین نسبت کلسیم به فسفر1/64~) و بیشترین مقدار فاز هیدروکسیآپاتیت را داشت. این نمونه مورفولوژی سطحی ریز و دانسیته حفرات بالایی را دارا بود

Authors

سکینه عباسی

دانشکده مهندسی مواد و متالورژی، دانشگاه علم و صنعت ایران،

محمدرضا بیاتی

دانشگاه NCSU امریکا

فرهاد گلستانی فرد

دانشکده مهندسی مواد و متالورژی، دانشگاه علم و صنعت ایران،

حمیدرضا رضایی

دانشکده مهندسی مواد و متالورژی، دانشگاه علم و صنعت ایران،

مراجع و منابع این Paper:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :
  • H. Shao, C. Yu, X. Xu, J. Wang, R. Zhai, ...
  • M. Karthega, N. Rajendran, Appl. Surf. Sci. 256 (2010) 2176-2183. ...
  • M. Ravelingien, A. S. Hervent, S. Mullens, J. Luyten, C. ...
  • H. Hu, X. Liu, C. Ding, Surf. Coat. Technol. 204 ...
  • X. Hu, H. Shen, K. Shuai, E. Zhang, Y. Bai, ...
  • R. Nirmala, K. T. Nam, D. K. Park, B. Woo-il, ...
  • H. J. Song, J. W. Kim, M. S. Kook, W. ...
  • Y. Ya-Jing, Y. Da-Chuan, S. Peng, Appl. Surf. Sci. 256 ...
  • A. Carrad, ACS Appl. Mat. Interfaces 2 (2010) 561-565. ...
  • J. Sun, Y. Han, K. Cui, Surf. Coat. Technol 202 ...
  • K. Nan, T. Wu, J. Chen, S. Jiang, Y. Huang, ...
  • J. H. Gao, S. K. Guan, J. Chen, L. G. ...
  • Y. Wang, L. Wang, H. Zheng, C. Du, C. Ning, ...
  • P. Gupta, G. Tenhundfeld, E. O. Daigle, D. Ryabkov, Surf. ...
  • M. R. Bayati, A. Z. Moshfegh, F. Golestani-Fard, Electrochim. Acta ...
  • C. Stitzel, F. A. Miller, F. Reinert, F. Niederdraenk, J. ...
  • S. Bertazzo, W. _ Zambuzzi, D. D. P. Campos, T. ...
  • Y. Han, J. Sun, X. Huang, Electrochem. Commun. 10 (2008) ...
  • Y. X. Chen, M. L. Ye, H. R. Cui, F. ...
  • M. C. de Andrade, M. R. Tavares Filgueiras, T. Ogasawara, ...
  • M. S. Kim, J. J. Ryu, Y. M. Sung, Electrochem. ...
  • O. Albayrak, O. El-Atwani, S. Altintas, Surf. Coat. Technol 202 ...
  • S. Hirakura, T. Kobayashi, S. Ono, Y. Oaki, H. Imai, ...
  • M. Okada, T. Furuzono, Mater. Sci. Eng., B 173 (2010) ...
  • D. Wei, Y. Zhou, D. Jia, Y. Wang, Ceram. Int. ...
  • J. Sun, Y. Han, K. Cui, Surf. Coat. Technol 202 ...
  • L. H. Larry, Bioceramics, Elsevier Science Ltd. (1995) 331-338. ...
  • Y. Han, J. Sun, X. Huang, Electrochem. Commun. 10 (2008) ...
  • نمایش کامل مراجع