بهینه سازی سل و زیرلایه در پوشش های سل ژل فلوئور هیدروکسی آپاتایت

امروزه پوشش فلوئور هیدروکسی آپاتایت به دلیل پایداری بیشتر نسبت به هیدروکسی آپاتایت جایگزین آن برای پوشش دهی ایمپلنت های دندانی شده است. ایمپلنت ها با روش هایی مثل الکتروشیمی و سل-ژل پوشش داده می شوند که پوشش دهی با سل-ژل علاوه بر ارزان تر بودن، فرایند آسان تر، پوشش هموژن تر قابلیت القای یون نیز به ما می دهد. در این گزارش برای اولین بار پارامتر های موثر در فرایند سل-ژل مورد بررسی قرار گرفته شده است تا بهینه ترین حالت برای فرایند سل-ژل پوشش فلوئور هیدروکسی آپاتایت بدست آید. ابتدا زیر لایه تیتانیومی گرید 5 Ti-6Al-4V برای پوشش دهی آماده شد، پوشش دهی زیر لایه به روش غوطه وری در سل FHA انجام شد و سپس در 550 درجه سانتیگراد کلسینه شد. ضخامت پوشش با استفاده از دستگاه بیضی سنجی اندازه گیری شد. بررسی فصل مشترک پوشش ها توسط تصویر برداری SEM (میزان حفرات و چسبندگی) انجام شد بررسی مورفولوژی پوشش نیز با استفاده از تصاویر SEM بررسی شد. نتایج نشان می دهد که استفاده از سل بازی برای پوشش دهی مناسب تر بوده و نمونه پوشش با سل بازی با شستشوی اسیدی زیر لایه در مقطع عرضی چگال تر است در نتیجه پوششی تقریبا یکنواخت، بدون ترک و پیوسته را روی زیر لایه خواهیم داشت و برای فرایند سل-ژل با افزایش pH زمان تشکیل ژل کاهش می یابد.