مطالعه خواص مکانیکی و الکتریکی لایههای نازک نیترید تیتانیوم تهیه شده به روش کندوپاش بر حسب تابعی از فشار گاز آرگون

Publish Year: 1392
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 769

This Paper With 10 Page And PDF Format Ready To Download

  • Certificate
  • من نویسنده این مقاله هستم

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این Paper:

شناسه ملی سند علمی:

ISSE14_060

تاریخ نمایه سازی: 9 بهمن 1392

Abstract:

وابستگی خواصالکتریکی و مکانیکی لایههای نازک نیترید تیتانیوم انباشت شده بر روی زیرلایههای سیلیکون به روش کندوپاش مغناطیسی DC به شار گاز آرگون بررسی شد. ساختار بلوری و ریخت شناسی لایهها ترتیب به وسیله پراش پرتو x XRD و میکروسکوپ نیروی اتمی AFM بررسی شد. خواص مکانیکی و الکتریکی لایهها نیز بوسیله آزمون سختی سنجی Nano-indentation و دستگاه جستجوگر چهار نقطه ای four point probe تحقیق شد. الگوهای پراش پرتو x شکل گیری نیترید تیتانیوم با ساختار FCC را برای همه نمونهها نشان داد. همچنین نتایج نشان داد جهت بلورنگاری ( 111 ) میتواند به عنوان جهت ترجیحی برای لایههای نازک تیتانیوم نیترید باشد. تصاویر میکروسکوپ نیروی اتمی AFM) یک ساختار ستونی یا سوزنی شکل را برای لایههای نازک تیتانیوم نیترید نشان داد. نتایج همچنین نشان داد افزایش شار گاز آرگون سبب افزایش سختی، اندازه دانه ها، زمختی سطح و سبب کاهش ضریب کشسانی و چگالی جا بجایی dislocation density در لایهها میشود. بررسیهای الکتریکی، وابستگی ولتاژ با جریان را در همه نمونهها به صورت خطی، نشان داد. و نیز نشان داد مقاومت ویژه الکتریکی لایهها با افزایش جریان گاز آرگون افزایش پیدا میکند.

Authors

ابراهیم شکرایی

تهران،دانشگاه آزاد اسلامی واحد تهران مرکز، دانشکده علوم پایه(دانشجوی کارشناسی ارشد)

زهره دهقانی

تهران،دانشگاه آزاد اسلامی واحد تهران مرکز، دانشکده علوم پایه(دانشجوی کارشناسی ارشد)

کیخسرو خجیر

مازندران، چالوس، دانشگاه آزاد اسلامی واحد چالوس، گروه فیزیک(استادیار)

ناصر زارع دهنوی

تهران، دانشگاه آزاد اسلامی واحد تهران مرکز، دانشکده علوم پایه(استادیار)

مراجع و منابع این Paper:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :
  • [l] M. Witmer, B. Studer, H. Melchior, "Electrical characteristics of ...
  • T. Hara, A. Y amanoue, H. Iio, K. Inoue, G. ...
  • W. Cheung, H. V Seefeld H, M.Nicolet A, F.Ho, P.Iles, ...
  • R.C Glass, L.M Spellman, S Taraka, R.F Davis, "Chemica1and structural ...
  • F. Vaz, J. Fereira, E. Ribeiro, Rebouta L., S. La ...
  • L.Eriksson, E. Harju, A. S Korhonen, K. Pischow, "Frmability and ...
  • W-J. Chou, G-P. Yu, J-H. Hung, "Mechanical ropertie ofT iN ...
  • V. Valvoda, "Structure of thin films of titanium nitride", J. ...
  • M. A. Baker, M. A. Monclus, C. Rebholz, P. N. ...
  • S. _ Hainsworth, W. C Soh, "The effect of the ...
  • A.Kumar , D.Singh , R. Kumar , D. Kaura _ ...
  • H. Holleck , " Material selection for ard coatings", J. ...
  • H. Savaloni, K. Khojier, S. Torabi, " Imfluece of N+ ...
  • S. Chatterjee, S .C harashekhar, T .S. Sudarshn , "Deposition ...
  • S.W Russel, M. J Rack, D. Adams , T. L. ...
  • P. Patsalas , C. Charitidis , S. Logothetidis, "The effect ...
  • J. Pelle g, L.Z. Zevin, S. L ungo , " ...
  • J. P. Zhao, X. Wang, Z. Y. Chen, S. Q. ...
  • N. Arshi, J. Lu, Y. K. Joo, C. G. Lee, ...
  • B.E. Warren, " X-ray Diffraction", Addison Wesley Publishing Co., London, ...
  • G. Q. Yu, B. K. Tay, S. P. Lau, K. ...
  • T. G. Wang, D. Jeong , Y. Liu , Q. ...
  • G. K. Williamson, R. E. Smallman, "D islocation ensities in ...
  • L. J. Meng, M. P. dos Santos, "Charac terization of ...
  • نمایش کامل مراجع