اثر pH و ترکیب مخلوط اسید سولفوریک - اکسالیک بر شکل گیری آرایه منظم حفره ها در آلومینا
Publish place: 2nd Nanotechnology Student Conference
Publish Year: 1386
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 2,410
This Paper With 7 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
NANOSC02_293
تاریخ نمایه سازی: 27 دی 1385
Abstract:
با روش آندایز توسط مخلوط اسید سولفوریک - اکسالیک، در ولتاژ بین 25 تا 40 ولت، می توان آرایه ای منظم از نانوحفره ها داشت . در هر ولتاژو pH ثابت از دو نوع الکترولیت با غلظت اسید سولفوریک متفاوت استفاده شده و تاثیر آن بر آرایش و نظم حفره ها با تبدیل فوریه از تصاویر AFM و SEM ، بررسی شده است . نتایج نشان می دهد که در ترکیب دارای غلظت بالاتر اسید سولفوریک، نظم بلند برد و در غلظت کمتر آرایش زیباتر حفره ها چشمگیر است . فاصله بین حفره ای در ترکیب مخلوط اسید سولفوریک - اکسالیک در غلظت کمتر ، بیشتر و تقریبا برابر nmV -1 2.6 و nmV -1 2.5 برای غلظت بالاتر است . چگالی سطحی حفره ها در 40 ولت با الکترولیت اکسالیک و در 25 ولت با سولفوریک حدود % 10 است در حالیکه برای ترکیب این دو اسید، این مقدار تا حدود % 50 در ولتاژ 37.5 افزایش می یابد .
Authors
محمد الماسی کاشی
پژوهشکده علوم و فناوری نانو، دانشگاه کاشان، ایران
عبدالعلی رمضانی
پژوهشکده علوم و فناوری نانو، دانشگاه کاشان، ایران
مونس رحماندوست
پژوهشکده علوم و فناوری نانو، دانشگاه کاشان، ایران
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :