اثر عوامل سرعت کشش، عملیات حرارتی و پیرشدگی بر روی خواص اپتیکی لایه های نانو ساختار و Sol-Gel ، تهیه شده به روش SiO2 ضد بازتاب
Publish place: 8th Conference on Condensed Matter
Publish Year: 1385
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 1,476
متن کامل این Paper منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل Paper (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
CMC08_074
تاریخ نمایه سازی: 3 اسفند 1385
Abstract:
با استفاده از فرآیند Sol-Gel و با روش لایه نشانی غوطه وری، پوشش های ضد بازتاب SiO2 بر روی بستر لام میکروسکوپ تهی بررسی UV-Vis شدند . سپس اثر عوامل سرعت کشش، دمای عملیات حرارتی و مدت زمان پیرشدگی بر روی طیف عبوری نمونه های تهیه شده، در محدوده شد . افزایش سرعت کشش و نیز افزایش دمای عملیات حرارتی، موجب کاهش میزان عبور نور شد . زمان پیرشدگی سل، اثر قابل توجهی بر روی میزان عبور نداشت که حاکی از پایداری محلول سل می باشد . برای بررسی ساختار سطحی لایه ها با استفاده از میکروسکوپ الکترونی از سطح نمونه ها تصویر SEM تهره شد.
Authors
مهدی نهاوندی
دانشگاه صنعتی خواجه نصیرالدین طوسی، دانشکده علوم پایه، خیابان شریعت
فلورا حشمت پور
دانشگاه صنعتی خواجه نصیرالدین طوسی، دانشکده علوم پایه، خیابان شریعت
هادی عادلخانی
سازمان انرژی اتمی ایران، مرکز تحقیقات لیزر