بررسی افزایش ضخامت لایه متخلخل در بازدهی سلول های خورشیدی نانو ساختار حساس شده با رنگدانه

بع نتظئر بررسی اثر ضخامت دربازده سلول های خورشیدی رنگدانه ای بر پایه ی نیم رسانای Tio2 به کمک روش دکتر بلید لایه ی متخلخل اکسید رسانای فلزی دی اکسید تیتانیوم بر روی زیر لایه ی FTO لایه نشانی شد به منظور افزایش ضخامت لایه نشانی در چند مرحله انجام شد تصاویر SEM گرفته شده از لایه ها نشان داد که این سطوح از لحاظ تعداد تهی جاها ساختار اگلومره و تعداد مرزدانه ها تفاوت ناجیز دارند که تمامی این مشخصه ها بر سرعت حرکت الکترون در سطح الکترود موثر می باشد و مسیر حرکت الکترون را تحت تاثیر قرار می دهند سلول های خورشیدی حساس شده با رنگینه به کمک شیشه FTO لایه متخلخل tio2 الکترولیت رنگ N719 و پلاتین ساخته شدند پس از مراحل حرارت دهی و بستن سلول ها تست (i-v) جریان -ولتاژ از نمونه ا گرتفه شد با استفاده از این تست اطلاعاتی شامل ولتاژ مدار باز (Voc) جریان مدار کوتاه (Jsc) فاکتور پرشدگی (FF) و بازده هر سلول بدست آمد درنهایت با بررسی نتایج و تست - جریان ولتاژ به این نتیجه رسیدیم که بازده تحت تاثیر ویژگی های فیزیکی سطح مانند ضخامت زبری میزان ناهمواری تعداد تهی جاها و میزان اگلومره شدن سطوح قرار می گیرد.